[发明专利]一种FeCoNiMn高熵合金薄膜、其制备方法及应用有效
| 申请号： | 202210479105.4 | 申请日： | 2022-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN114836714B | 公开（公告）日： | 2023-10-03 |
| 发明（设计）人： | 方峰;丁富远;张泽灵;徐邦利;翁诗雅;周雪峰 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/16;C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 211189 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 feconimn 合金 薄膜 制备 方法 应用 | ||
1.一种FeCoNiMn高熵合金薄膜，其特征在于，按质量百分比包含以下组分：Fe:23.1％～36.8％，Co:16.9％～48.9％，Ni:7.4％～20.4％，Mn:7.6％～38.9％。
2.一种权利要求1所述FeCoNiMn高熵合金薄膜的制备方法，其特征在于，采用射频磁控溅射法，将靶材原材料拼接成溅射靶材，至少以一种保护气体为工作气体，在基体表面溅射沉积FeCoNiMn高熵合金薄膜。
3.根据权利要求2所述的FeCoNiMn高熵合金薄膜的制备方法，其特征在于，所述溅射靶材中Fe片拼接比例在90°～120°；Co靶拼接比例在60°～90°；Ni片拼接比例在60°～90°；Mn靶拼接比例在90°～120°。
4.根据权利要求2所述的FeCoNiMn高熵合金薄膜的制备方法，其特征在于，溅射的功率为40W～80W。
5.根据权利要求2所述的FeCoNiMn高熵合金薄膜的制备方法，其特征在于，溅射的时间为1h～3h。
6.根据权利要求2所述的FeCoNiMn高熵合金薄膜的制备方法，其特征在于，所用基体为钛片。
7.根据权利要求2所述的FeCoNiMn高熵合金薄膜的制备方法，其特征在于，所述工作气体为氩气。
8.根据权利要求7所述的FeCoNiMn高熵合金薄膜的制备方法，其特征在于，所用氩气浓度为99.00％～99.99％，氩气流量为20sccm～30sccm，工作气压为0.5Pa～1Pa。
9.一种权利要求1所述FeCoNiMn高熵合金薄膜在电极材料中的应用。
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