[发明专利]一种荧光可编码的框架核酸结构的制备方法和应用

权利要求书

1.一种荧光可编码的框架核酸结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1)将荧光素修饰到DNA单链S1、S2、S3和S4上，根据框架核酸的结构特点及碱基互补配对原则使得所述DNA单链进行自组装，设计不同荧光编码的框架核酸结构；

步骤2)将步骤1)中修饰有荧光素的DNA单链S1、S2、S3、S4按照相同的摩尔比混合，通过高温退火自组装的方法制备出不同荧光编码的框架核酸结构；

步骤3)将步骤2)中制备的不同荧光编码的框架核酸结构进行荧光表征，得到其荧光光谱图。

2.根据权利要求1所述的一种荧光可编码的框架核酸结构的制备方法，其特征在于，步骤1)所述荧光素包括近红外二区荧光分子、上转换粒子、量子点、罗丹明、花菁染料、金纳米簇、含芳香烃/杂环结构的荧光团中的一种或至少两种的组合。

3.根据权利要求1所述的一种荧光可编码的框架核酸结构的制备方法，其特征在于，步骤1)所述荧光素通过DNA的固相亚磷酰胺三脂法修饰在DNA单链的任意位置，包括5’端、3’端或中间任意位置。

4.根据权利要求1所述的一种荧光可编码的框架核酸结构的制备方法，其特征在于，所述框架核酸结构包括DNA四面体、DNA立方体、DNA折纸、DNA三棱柱、DNA八面体、DNA十二面体或DNA二十面体。

5.根据权利要求1所述的一种荧光可编码的框架核酸结构的制备方法，其特征在于，步骤2)所述高温退火自组装的步骤为：将不同修饰的DNA单链S1、S2、S3、S4等比例混合在TM缓冲液中，配成终浓度为1pM～100μM的样品；然后将样品在95℃加热2～10min，再在30s内急速退火至4℃，并在4℃下保持5～30min，即得到不同荧光编码的框架核酸结构。

6.根据权利要求1所述的一种荧光可编码的框架核酸结构的制备方法，其特征在于，步骤3)所述荧光表征的步骤为：将制备得到的终浓度为1pM～100μM的框架核酸结构取50～1000μL放置于荧光比色皿中，然后用荧光分光光度计在供体激发光下，测量其荧光发射光谱图。

7.权利要求1-6任一项所述制备方法制得的荧光可编码的框架核酸结构在生物检测成像中的应用。

8.权利要求1-6任一项所述制备方法制得的荧光可编码的框架核酸结构在光电子学领域中的应用。