[发明专利]显示面板及其制作方法

说明书

本发明公开了一种显示面板及其制作方法。所述显示面板包括多个像素功能区，且每一像素功能区皆包括相邻的一第一子像素区和一第二子像素区；显示面板还包括第一导通层以及第二导通层；第一导通层包括位于像素功能区内且至少设置于第一子像素区周侧的第一公共信号部；第二导通层设置于第一导通层的一侧，并包括设置于各像素功能区内的第一漏极与第二漏极，在每一像素功能区内，第一漏极到第一子像素区的距离小于第一漏极到第二子像素区的距离，第二漏极到第一子像素区的距离小于第二漏极到第二子像素区的距离；其中，第一公共信号部靠近各第一漏极处皆设置有标记结构。本发明可以提高显示面板的暗点化修补的成功率以及修补效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)以其大尺寸、高度集成、功能强大、工艺灵活、低成本等优势而广泛地应用于电视、手机、电脑等领域，成为了平板显示器的主流。液晶显示面板，简称液晶面板，是TFT-LCD的主要部件，通常由一彩膜基板(ColorFilter，CF)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin FilmTransistor Array Substrate，TFTArray Substrate)以及一灌装于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。

在阵列基板的生产过程中，受生产工艺及外部环境的影响，薄膜晶体管中会存在一些金属碎屑或异物等残留物，导致受该薄膜晶体管驱动的像素在显示时成为亮点，进而使得显示面板的画面显示异常。因此，通常需要对显示异常的像素进行暗点化修补，以改善显示面板的显示质量。目前，阵列基板的暗点化修补手法为：采用镭射工艺切断显示异常像素对应的薄膜晶体管的信号输入，使得显示异常像素对应的液晶无法偏转，进而实现暗点化。

请参照图1以及图2，在具有数据线共享(Data Line Sharing，DLS)架构的显示器中，相邻的两个子像素P1和P2分别通过晶体管T1和T2进行信号输入，晶体管T1和T2共用一根数据线D，且分别连接不同的两根扫描线G，且晶体管T1通过较短的连接体a连接于子像素P1，晶体管T2通过较长的连接体b连接于子像素P2；当子像素P1或P2发生异常时，需要对子像素P1或P2进行暗点化修补时，在背光下，观察到的结构图如图2所示，其中包括与晶体管T1的漏极T11以及晶体管T2的漏极T21，而与漏极连接的像素电极由于是透明材料制成(例如ITO)，无法观察到，进而从观察到的图2中无法判断漏极T11和T21分别连接的是哪个子像素，进而无法准确有效的对子像素P1或P2进行暗点化修补。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法，能够提高修补成功率以及修补效率。

本发明实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括多个像素功能区，且每一所述像素功能区皆包括相邻的一第一子像素区和一第二子像素区；

所述显示面板还包括：

基板；

第一导通层；设置于所述基板的一侧，并包括位于所述像素功能区内且至少设置于所述第一子像素区周侧的第一公共信号部；

第二导通层，设置于所述第一导通层远离所述基板的一侧，并包括设置于各所述像素功能区内的第一漏极与第二漏极，在每一所述像素功能区内，所述第一漏极到所述第一子像素区的距离小于所述第一漏极到所述第二子像素区的距离，所述第二漏极到所述第一子像素区的距离小于所述第二漏极到所述第二子像素区的距离；

像素电极层，设置于所述第二导通层远离所述第一导通层的一侧，所述像素电极层包括设置于所述第一子像素区内的第一像素电极以及设置于所述第二子像素区内的第二像素电极；