[发明专利]一种基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器

权利要求书

1.一种基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器，其特征在于：该调制器包括由上而下依次设置的上基板(1)和下基板(2)，所述上基板(1)和下基板(2)之间填充有双折射材料(3)；其中，下基板(2)包括具有像素点电压调制能力的基底(201)，基底朝向上基板的表面分布有纳米砖(202)阵列与覆盖在纳米砖(202)阵列上的一层介质材料(203)，上基板面向双折射材料的表面内具有取向层。

2.根据权利要求1所述的基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器，其特征在于：所述纳米砖阵列至少有部分位于双折射材料(3)中；所述纳米砖阵列采用周期分布方式。

3.根据权利要求1所述的基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器，其特征在于：所述双折射材料(3)采用液晶。

4.根据权利要求3所述的基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器，其特征在于：所述液晶采用电驱动方式工作或采用光驱动方式工作。

5.根据权利要求1所述的基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器，其特征在于：所述下基板(2)包含像素化驱动电路。

6.根据权利要求1所述的基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器，其特征在于：所述基底(201)朝向上基板的表面顶层具有像素电极，所述纳米砖阵列分布在像素电极上。

7.根据权利要求1所述的基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器，其特征在于：所述具有像素点电压调制能力的基底(201)为刻有可独立寻址半导体电极的硅基集成电路芯片。

8.根据权利要求1所述的基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器，其特征在于：所述上基板(1)为铟锡氧化物导电玻璃。

9.根据权利要求1所述的基于超表面结构锚定的纯相位空间光调制器，其特征在于：所述上基板取向层，其配向方式为光取向或摩擦取向，入射光为线性偏振光且偏振方向与液晶分子取向方向相同。