[发明专利]一种X射线经过非均匀短程介质的传播的计算方法在审

专利信息
申请号: 202210499503.2 申请日: 2022-05-09
公开(公告)号: CN115035035A 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 孙玮宏;王勇;孟祥雨;任俊超;邰仁忠 申请(专利权)人: 中国科学院上海高等研究院
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06F17/15
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 杨怡清;熊俊杰
地址: 201210 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 射线 经过 均匀 短程 介质 传播 计算方法
【说明书】:

发明涉及一种X射线经过非均匀短程介质的传播的计算方法,包括以下步骤:S1将光源面分割成若干光源面面元,计算各个光源面面元内的X射线在入射面的复振幅,然后将所有光源面面元在入射面的复振幅相加,得到入射面上的总复振幅;S2以入射面的波矢法线方向作为X射线在入射面上的传播方向,沿光轴方向切割非均匀短程介质为若干切片,计算X射线沿切片的传播和X射线的波前调制,根据X射线与出射面的交点将出射面分割为若干出射面面元,由出射面面元分布确定出射面上的复振幅;S3计算各个出射面面元在焦平面的复振幅,然后将所有出射面面元在焦平面上的复振幅相加,得到焦平面上的总复振幅。

技术领域

本发明涉及同步辐射及自由电子激光光束线技术领域,更具体地涉及一种X射线经过非均匀短程介质的传播的计算方法。

背景技术

随着X射线技术的进步,波荡器电子束自然发散度不断降低,例如三代光源的发散度为10nmrad,衍射极限环和自由电子激光的发散度为0.1nmrad。低电子束发散度意味着高光子峰值亮度和高功率,这对光学元件的设计提出了新的挑战。在硬X射线波段(5KeV以上),通常使用非均匀短程介质光学元件。该类元件具有聚焦,单色化,准直等功能,能够把X光从波荡器传输到实验站,满足不同的实验需求。非均匀短程介质光学元件主要有:复合折射透镜,Kinoform透镜,相位波带片等。复合折射透镜是基于折射原理,将多个双凹透镜沿光轴方向进行组合,可以将X射线聚焦到亚微米量级。该透镜具有使用灵活,不改变光路传播方向,工作能量高的优点。在复合折射透镜基础上,Kinoform透镜扣除X光波长整数倍长度的材料,Kinoform结构不改变聚焦特性,降低材料对X射线的吸收,具有高透过率的优点。相位波带片基于X光的相位调制,相邻半波片相位差为2π,在特定位置实现X光聚焦。以上元件都被广泛应用于同步辐射及自由电子激光的光束线站建设。

快速准确模拟X射线经过非均匀短程介质的传播,对于光束线的优化设计非常重要。现有技术中主要采用光束传播算法和薄透镜近似算法来处理X射线经过非均匀短程介质的传播,其中,光束传播算法基于波动光学,将介质切分成大量切片,然后利用角谱算法处理经过每个切片的传播,并考虑不均匀介质对X射线传播的相位调制,其计算精度虽然较高,但是计算效率低下;在处理二维聚焦光学元件中尤为明显,该算法几乎无法使用。薄透镜近似算法将光学元件近似为薄透镜,基于几何光学处理经过光学元件的传播,其计算速度快,但是计算精度差。

发明内容

本发明的目的在于提供一种X射线经过非均匀短程介质的传播的计算方法,以精确高效地模拟X射线经过非均匀短程介质光学元件的传播。

本发明提供一种X射线经过非均匀短程介质的传播的计算方法,包括以下步骤:

S1:将光源面分割成若干光源面面元,计算各个光源面面元内的X射线在非均匀短程介质入射面的复振幅,然后将所有光源面面元在入射面的复振幅相加,得到入射面上的总复振幅;

S2:以入射面的波矢法线方向作为X射线在入射面上的传播方向,沿光轴方向切割非均匀短程介质为若干切片,计算X射线沿切片的传播和非均匀短程介质对X射线的波前调制,根据X射线与出射面的交点将出射面分割为若干出射面面元,由出射面面元分布确定出射面上的复振幅;

S3:计算各个出射面面元在焦平面的复振幅,然后将所有出射面面元在焦平面上的复振幅相加,得到焦平面上的总复振幅。

进一步地,每个光源面面元内的X射线在入射面上的复振幅由惠更斯菲涅尔原理计算得到,满足如下关系式:

z=f1(x,y)

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