[发明专利]抗高能电子辐射铝基复合屏蔽材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202210502932.0 申请日: 2022-05-10
公开(公告)号: CN114921690B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 王健;吕政;马书旺;杨志民;杨剑;雪丹;王建昭 申请(专利权)人: 有研工程技术研究院有限公司;北京空间飞行器总体设计部
主分类号: C22C21/00 分类号: C22C21/00;C22C27/02;C22C30/00;B22F1/052;B22F3/04;B22F3/15;B22F3/18;B22F3/00;C22C1/04;B64G1/54
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 陈波
地址: 101407 北京市怀*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高能 电子 辐射 复合 屏蔽 材料 及其 制备 方法
【说明书】:

发明提出一种抗高能电子辐射铝基复合屏蔽材料制备方法,包括以下步骤:(1)将钨粉、钽粉与铝粉按一定配比,使用双锥混料机混合均匀,得到多种复合粉体;(2)将复合粉体进行逐层装填至冷等静压模具中,冷等静压成型,冷等静压压力为50MPa~200MPa,保压时间为10min~40min,得到冷等静压坯锭;(4)将冷等静压坯锭装在铝包套中,使用热等静压烧结或者真空热压烧结的方法成型,得到层状分布的铝基复合屏蔽材料;(5)铝基复合屏蔽材料采用高温双向交替轧制的成型方式,获得抗高能电子辐射铝基复合屏蔽材料成品板材。采用本发明的方法制备的复合材料具有致密度高、增强相分布均匀、综合力学性能好、屏蔽性能好及可靠性高等优点。

技术领域

本发明涉及屏蔽材料制备技术领域,具体涉及一种抗高能电子辐射铝基复合屏蔽材料及其制备方法。

背景技术

空间环境是以决定卫星等飞行器长寿命、高可靠的主要因素之一。天然辐射导致的卫星故障高达总故障的三分之一以上。带电粒子与电子元器件相互作用,产生各种空间辐射效应,当沉积剂量超出器件的阈值后,导致电子器件失效,威胁卫星使用安全。针对这些辐射敏感器件,采用相应的屏蔽材料对器件进行屏蔽,使电子器件的辐射总剂量下降到其阈值一下,可以有效的延长电子元器件的使用寿命。

在不损失结构强度、导电性能等的前提下,同等面密度下多层屏蔽材料的防护性能优于单一铝材料。一般而言,利用低原子序数(低Z)材料屏蔽高能质子更有效,而利用高Z材料(钽、钨、钛、铅等)屏蔽高能电子和韧致辐射更有效。因此,可采用多层屏蔽的设计方法,将高Z材料和低Z材料结合,达到屏蔽效果优化的目的。

目前采用贴片的方法制备空间屏蔽材料,如将高Z材料,如钽,和低Z材料,如铝、镁等实现贴合,但是高Z材料与低Z材料存在密度、熔点和热变形性能差异大,难以实现焊接连接和变形连接,而材料的物理性能,如热导率和热膨胀系数差异明显,也导致了贴片等结合方式存在层片间结合力弱,贴片层在冷热循环空间严苛条件下易脱落等问题,对屏蔽材料的可靠性应用提出严峻挑战。

发明内容

本发明的目的针对现有贴片式空间屏蔽材料的的缺点,提供集成化、高可靠性和可设计的空间高能电子屏蔽材料的制备方法,该方法制备的复合材料具有致密度高、力学性能好,屏蔽效果好及可设计等优点。

为解决上述技术问题,本发明提供一种抗高能电子辐射铝基复合屏蔽材料,其包括钨的质量含量为10%~40%,钽的质量含量为10%~50%,其余为纯铝或铝合金基体,屏蔽材料具体的成分及组成形式依据辐射源以及面密度的要求计算优化获得,采用蒙特卡洛法进行优化计算,获得优选的成分组成及排布方式。

本发明还提供上述抗高能电子辐射铝基复合屏蔽材料的制备方法,其包括:

第一步,将部分钨粉和部分铝粉按比例混合,得到铝钨复合粉体;

第二步,将部分钽粉和部分铝粉按比例混合,得到铝钽复合粉体;

第三步,将部分钨粉、部分钽粉和部分铝粉按比例混合,得到铝钨钽复合粉体;

第四步,将上述复合粉体逐层按照一定比例装填至冷等静压模具,进行冷等静压成型,得到高低Z复合材料层状分布的冷等静压坯锭;

第五步,将冷等静压坯锭使用热等静压烧结的方法成型;

第六步,将第五步获得的成型材料在马弗炉中双向交替轧制,获得抗高能电子辐射铝基复合屏蔽材料。

本发明还提供上述抗高能电子辐射铝基复合屏蔽材料的制备方法,其包括:

第一步,将部分钨粉和部分铝粉按比例混合,得到铝钨复合粉体;

第二步,将部分钽粉和部分铝粉按比例混合,得到铝钽复合粉体;

第三步,将部分钨粉、部分钽粉和部分铝粉按比例混合,得到铝钨钽复合粉体;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于有研工程技术研究院有限公司;北京空间飞行器总体设计部,未经有研工程技术研究院有限公司;北京空间飞行器总体设计部许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210502932.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top