[发明专利]一种使用复合阳极修饰层的有机太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 202210504084.7 | 申请日: | 2022-05-10 |
公开(公告)号: | CN114899319A | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 秦大山;丰尚 | 申请(专利权)人: | 河北工业大学 |
主分类号: | H01L51/44 | 分类号: | H01L51/44;H01L51/48 |
代理公司: | 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 | 代理人: | 赵凤英 |
地址: | 300130 天津市红桥区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 使用 复合 阳极 修饰 有机 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种使用复合阳极修饰层的有机太阳能电池,其特征为该太阳能电池的组成从下到上依次为玻璃衬底、阴极层、阴极修饰层、活性层、阳极修饰层、n型掺杂层和阳极层;
所述沉积在阳极修饰层上的n型掺杂层是以下二组分薄膜中一种:Ⅰ.由2,9-二甲基-4,7-联苯-1,10-菲罗啉和镱组成的n型掺杂薄膜,其质量比为2,9-二甲基-4,7-联苯-1,10-菲罗啉:镱=100:1~100:40;Ⅱ.由4,7-二苯基-1,10-菲罗啉和镱组成的n型掺杂薄膜,其质量比为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉:镱=100:1~100:40;Ⅲ.由1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯和镱组成的n型掺杂薄膜,其质量比为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯:镱=100:1~100:40。
2.如权利要求1所述的使用复合阳极修饰层的有机太阳能电池,其特征为所述阴极层的材料是导电氧化铟锡薄膜;
所述阴极修饰层的材料是纳米氧化锌;
所述活性层的材料是以下二组分薄膜中的任意一种:Ⅰ.由聚(3-己基噻吩)和[6.6]-苯基-C61-丁酸甲酯组成的二组分薄膜,其质量配比为聚(3-己基噻吩):[6.6]-苯基-C61-丁酸甲酯=12:6~12:24;Ⅱ.由聚(4,8-双(5-(2-乙基己基)噻吩基)苯并[1,2-b;4,5-b']二噻吩基-alt-(4-(2-乙基己基-3-氟噻吩并[3,4-b]噻吩)-2-羧酸酯基))和[6.6]-苯基-C71-丁酸甲酯组成的二组分薄膜,其质量配比为聚(4,8-双(5-(2-乙基己基)噻吩基)苯并[1,2-b;4,5-b']二噻吩基-alt-(4-(2-乙基己基-3-氟噻吩并[3,4-b]噻吩)-2-羧酸酯基)):[6.6]-苯基-C71-丁酸甲酯=10:5~10:20;Ⅲ.由聚([4,8-双-((2-乙基己基)-4-氟-2-噻吩基)苯并[1,2-b;3,3-b]二噻吩]-alt-[1,3-双-(噻吩-5基)-5,7-双-(2-乙基己基)苯并[1,2-c:4,5-c']二噻吩-4,8-二酮])和12,13-二(2-乙基己基)-3,9-双十一基-12,13-二氢-[1,2,5]噻二唑并[3,4-e]噻吩并[2”,3”:4',5']噻吩并[2',3':4,5]吡咯并[3,2-g]噻吩并[2',3':4,5]噻吩并[3,2-b]吲哚-2,10-二(5,6-二氟-3-(二氰基亚甲基)茚-1-酮)组成的二组分薄膜,其质量配比为聚([4,8-双-((2-乙基己基)-4-氟-2-噻吩基)苯并[1,2-b;3,3-b]二噻吩]-alt-[1,3-双-(噻吩-5基)-5,7-双-(2-乙基己基)苯并[1,2-c:4,5-c']二噻吩-4,8-二酮]):12,13-二(2-乙基己基)-3,9-双十一基-12,13-二氢-[1,2,5]噻二唑并[3,4-e]噻吩并[2”,3”:4',5']噻吩并[2',3':4,5]吡咯并[3,2-g]噻吩并[2',3':4,5]噻吩并[3,2-b]吲哚-2,10-二(5,6-二氟-3-(二氰基亚甲基)茚-1-酮)=7:3.5~7:14;
所述阳极修饰层的材料是三氧化钼;
所述沉积在n型掺杂层上的阳极层的材料为铝。
3.如权利要求1所述的使用复合阳极修饰层的有机太阳能电池,其特征为所述的氧化铟锡导电薄膜的厚度为80~300nm和面电阻小于10欧姆/每4×4cm2方块。
4.如权利要求1所述的使用复合阳极修饰层的有机太阳能电池,其特征为所述的阴极修饰层的厚度为20~50nm;所述的活性层的厚度为50~500nm;所述的阳极修饰层的厚度为2~10nm;所述的n型掺杂层的厚度为5~50nm;所述的阳极层的厚度为50~200nm。
5.如权利要求1所述的使用复合阳极修饰层的有机太阳能电池的制备方法,该方法包括如下步骤:
第一步,衬底上的阴极层的处理
把以阴极层覆盖的玻璃衬底裁剪后,依次在丙酮、乙醇、去离子水中超声波清洗;
第二步,在阴极层上沉积阴极修饰层
将纳米ZnO溶液旋涂到第一步处理过的阴极层上,1000~3000转/分钟的速度下旋涂50~70秒钟,形成的阴极修饰层薄膜;
其中,所述的纳米ZnO溶液的溶剂为乙醇,浓度为10~30mg/mL,纳米ZnO颗粒的粒径为1~3nm;
第三步,在阴极修饰层上沉积活性层
选用以下工艺中的任意一种:
Ⅰ.按照二组分薄膜的质量配比为P3HT:PC61BM=12:6~24,将P3HT和PC61BM加入到1,2-邻二氯苯中形成混合溶液,其中,PC61BM的浓度为6~24mg/mL;然后在800~2000转/分钟的速度下,将其旋涂到第二步沉积的阴极修饰层上,之后在大气条件下放置200~1200秒,形成的二组分薄膜;
Ⅱ.按照二组分薄膜的质量配比为PTB7-Th:PC71BM=10:5~20,将PTB7-Th和PC71BM加入到1,2-邻二氯苯中形成混合溶液,其中,PC71BM的浓度为5~20mg/ml;然后在800~2000转/分钟的速度下,将其旋涂到第二步沉积的阴极修饰层上,形成的二组分薄膜;
Ⅲ.按照二组分薄膜的质量配比为PM6:Y6=7:3.5~14,将PM6和Y6加入到氯仿中得到混合溶液,其中,Y6的浓度为3.5~14mg/mL;然后在2000~5000转/分钟的速度下,将其旋涂到第二步沉积的阴极修饰层上,再在氮气气氛下退火2~8分钟,退火温度为90~110℃,形成的二组分薄膜;
第四步,在活性层上沉积阳极修饰层
将第三步制得的沉积了活性层的产品放入真空镀膜机中;真空镀膜机抽到背景真空度为4×10-4Pa,采用热蒸发方式,在第三步沉积的活性层上再沉积MoO3作为阳极修饰层;
第五步,在阳极修饰层上沉积n型掺杂层
选用以下工艺中的任意一种:
Ⅰ.真空镀膜机抽到背景真空度为4×10-4Pa,采用热蒸发方式,在第四步沉积的阳极修饰层上再沉积BCP中掺杂Yb作为n型掺杂层,厚度为5~50nm,其质量配比为BCP:Yb=100:1~100:40;
Ⅱ.真空镀膜机抽到背景真空度为4×10-4Pa,采用热蒸发方式,在第四步沉积的阳极修饰层上再沉积Bphen中掺杂Yb作为n型掺杂层,厚度为5~50nm,其质量配比为Bphen:Yb=100:1~100:40;
Ⅲ.真空镀膜机抽到背景真空度为4×10-4Pa,采用热蒸发方式,在第四步沉积的阳极修饰层上再沉积TPBi中掺杂Yb作为n型掺杂层,厚度为5~50nm,其质量配比为TPBi:Yb=100:1~100:40;
第六步,在n型掺杂层上沉积阳极层
在真空镀膜机中,真空镀膜机抽到背景真空度为4×10-4Pa,采用热蒸发方式,在第五步沉积的n型掺杂层上沉积Al薄膜作为阳极层,沉积速率为将此最终产品从在真空镀膜机中取出,最终制得上述使用复合阳极修饰层的有机太阳能电池。
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