[发明专利]一种金刚石膜片制作方法

权利要求书

1.一种金刚石膜片制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、选择合适的基板，对基板进行清洁；

S2、在基板上形成金刚石晶种；

S3、使用微波等离子体气相沉积方法或者热丝反应法方法使金刚石生长；

S4、退火；

S5、金刚石膜片研磨；

S6、金刚石膜片抛光；

S7、基板去除；

S8、对金刚石膜片进行激光切割；

S9、成品清洗；

本发明还提供了另一种生产方法：

X1、选择合适的基板，对基板进行清洁；

X2、在基板上形成金刚石晶种；

X3、使用微波等离子体气象沉积方法或者热丝反应法方法使金刚石生长；

X4、退火；

X5、双面研磨；

X6、双面抛光；

X7、对金刚石膜片进行激光切割；

X8、成品清洗；

在所述S4和所述X4中，退火工序为将金刚石膜片放入高温退火炉内，炉内通入氢气氛或者惰性气体氛围，升温至退火温度，氢气氛有助于金刚石膜片内部非金刚石相或者杂质氢化分解，退火有助于去除金刚石膜片内应力。

2.根据权利要求1所述的一种金刚石膜片制作方法，其特征在于：在所述S1和所述X1中，晶片基板为硅基板、蓝宝石、碳化硅和氮化镓中的一种，生长面粗糙度为0.5～20nm，金属基板为铜基板和钼基板中的一种，生长面粗糙度为100～800um。

3.根据权利要求1所述的一种金刚石膜片制作方法，其特征在于：在所述S1和所述X1中，所述基板清洁方式为化学处理和离子蚀刻中的一种或两种结合。

4.根据权利要求1所述的一种金刚石膜片制作方法，其特征在于：在所述S2和所述X2中，基板上形成金刚石晶种的方式为旋涂方式、丝网印刷、超声附着和先用等离子体蚀刻然后再超声附着中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种金刚石膜片制作方法，其特征在于：在完成所述S9和所述X8的步骤后，根据用途还可以对所述金刚石膜片进行金属化镀膜，金属化镀膜的材料为氮化铝、铜、镍、锡中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种金刚石膜片制作方法，其特征在于：在所述S5和所述X5中，所述研磨通过不同研磨材料选择搭配，对金刚石膜片表面进行磨平，经过研磨之后表面粗糙度达到0.1um～0.5um。

7.根据权利要求1所述的一种金刚石膜片制作方法，其特征在于：在所述S6和所述X6中，金刚石膜片的抛光方式为机械式干抛、或者化学辅助抛光中的一种，抛光砂轮为树脂类、陶瓷类、金属类砂轮中的一种，抛光后金刚石的表面粗糙度达到0.1～5nm。

8.根据权利要求1所述的一种金刚石膜片制作方法，其特征在于：在所述S4和所述X4中，退火温度为600～1000℃，退火时间为1～360min。

9.根据权利要求1所述的一种金刚石膜片制作方法，其特征在于：在所述S7中，基底去除的方式采用研磨去除、化学去除和激光剥离中的一种。