[发明专利]一种射流侵彻内孔形貌测量方法在审
申请号: | 202210507079.1 | 申请日: | 2022-05-11 |
公开(公告)号: | CN114719777A | 公开(公告)日: | 2022-07-08 |
发明(设计)人: | 郭锐;刘正军;曲浩军;武军安;唐玉勇;周昊;杨永亮 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;G01B11/22;G01B11/00 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 朱沉雁 |
地址: | 210094 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 射流 侵彻内孔 形貌 测量方法 | ||
1.一种射流侵彻内孔形貌测量方法,其特征在于,步骤如下:
步骤1、搭建内孔形貌测量装置:
所述内孔形貌测量装置包括水平工作台(11)、驱动机构、内窥镜(2)、夹持件(3)、支撑机构;支撑机构用于支撑固定驱动机构,支撑机构底部固定在水平工作台(11)上,内窥镜(2)通过夹持件(3)与驱动机构连接,驱动机构带动内窥镜(2)沿竖直方向运动,实现对射流侵彻靶板(1)的内孔测量;
步骤2、将射流侵彻靶板(1)放置在水平工作台(11)上,调节射流侵彻靶板(1)的位置,使得内窥镜(2)的镜头对准射流侵彻靶板(1)的内孔;
步骤3、内窥镜(2)在驱动机构带动下向下运动,到达射流侵彻靶板(1)的内孔顶部时,该阶段为匀速向下伸入阶段Ⅰ;内窥镜(2)继续向下伸入射流侵彻靶板(1)的内孔,内窥镜(2)随着移动自动对焦,采集射流侵彻靶板(1)的内孔形貌信息,该阶段为匀速测量阶段Ⅱ;内窥镜(2)向上移动,退出内孔,该阶段为匀速向上退出阶段Ⅲ;
步骤4、根据采集到的射流侵彻靶板(1)的内孔形貌信息,求取射流侵彻靶板(1)的侵彻深度和内容积。
2.根据权利要求1所述的射流侵彻内孔形貌测量方法,其特征在于:驱动机构包括丝杠直线导轨滑台(4)和驱动电机(5),驱动电机(5)位于丝杠直线导轨滑台(4)的顶面,丝杠直线导轨滑台(4)的底面垂直固定于水平工作台(11)上,丝杠直线导轨滑台(4)和驱动电机(5)通过支撑机构在垂直方向上连接,夹持件(3)一端与丝杠直线导轨滑台(4)的滑台固连,另一端用于固连内窥镜(2);控制驱动电机(5)的正反转,进而实现控制丝杠向下或向上进给,实现滑台向下或向上运动。
3.根据权利要求1所述的射流侵彻内孔形貌测量方法,其特征在于:支撑机构包括电机固定架和丝杠直线导轨滑台固定架,电机固定架设置于丝杠直线导轨滑台固定架顶面,电机固定架用于固定驱动电机(5),丝杠直线导轨滑台固定架用于为丝杠直线导轨滑台(4)提供支撑。
4.根据权利要求1所述的射流侵彻内孔形貌测量方法,其特征在于,步骤4中,采集到的射流侵彻靶板(1)的内孔形貌信息由点云构成,求取射流侵彻靶板(1)的侵彻深度和内容积应满足以下公式:
χ2+y2+Ax+By+C=0 (2)
Vk=πR2Δd (7)
其中,d为射流内孔侵彻深度,(xi,yi)为数据点坐标,A,B,C为圆的一般参数方程中的参数,F为最小二乘原理拟合的目标函数,N为数据点总数,R为射流内孔的底面半径,Vk为第k个微元体体积,Δd为第k个微元体高,VT为射流孔内容积,M为微元体总数。
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