[发明专利]一种基片真空染色方法及染色基片和眼镜

说明书

本发明涉及一种基片真空染色方法及染色基片和眼镜，基片真空染色方法包括以下步骤：S1、将基片清洗干净后烘干，得到洁净基片；S2、将所述洁净基片烘烤，得到烘烤基片；S3、将所述烘烤基片摆放在治具上，送入真空镀膜机腔室中并抽真空，采用电子枪轰击保护材料，所述保护材料为氧化硅和氧化铝的混合物，在所述烘烤基片的表面形成内保护层；S4、采用电子枪轰击染色材料，所述染色材料为氧化钛和氧化铌的混合物，在所述内保护层的表面形成染色层；S5、采用电子枪轰击所述保护材料，在所述染色层的表面形成外保护层。所述真空颜色基片的透过率可调，满足基片分级要求，同时基片具有均匀的颜色，良品率高，可以满足后续多样化加工要求。

技术领域

本发明涉及镜片基片的制备方法，尤其是一种基片真空染色方法及染色基片和眼镜。

背景技术

镜片作为光学元件，在生活、生产中运用广泛。镜片根据功能的不同，常常在以基片作为基础，在基片上进行改进，常见的基片有玻璃、尼龙、聚碳酸酯、亚克力等材质。

为了使镜片具有不同的颜色，需要使用彩色基片进行改进，现有的方法是在基片制作时引入色粉，获得染色基片，然而色粉与不同基片材质的相容性不同，不能使用所有基片。

专利申请CN107011500A公开了一种光致变色基片材料，含有的组分及各组分的质量份如下：环氧类化合物：50-70份；聚醚多元醇类化合物：30-40份；催化剂：1-5份；脱模剂：0.08-0.1份；变色粉：0.03-0.05份。这种基片为聚酯类变色基片，而玻璃、亚克力等材质则不适用。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有的彩色基片制备中存在的问题，提供一种基片真空染色方法，可以适用于不同材质的基片，使其获得目标颜色，同时满足对应的透过率要求，可以替代现有的染色基片，进行强化、镀功能性薄膜等。

常规的真空镀膜是在基片上形成特定功效的膜层，例如增透层、抗红外线层、防蓝光层等，通常真空镀膜层是无色的。也有带颜色的功效层，但是这种片材不适合作为基片，因为基片对透过率有要求，按照透过率的大小，包括0级，透过率大于80％；1级，透过率为43-80％；2级，透过率为18-43％；3级，透过率为8-18％，4级，透过率小于8％。现有的功效层无法满足透过率分级的要求。

本发明通过真空条件下蒸镀染色材料，以形成特定颜色的染色基片。常规的有机类染色材料不耐高温，在电子枪轰击后性能不稳定，不能形成稳定的膜层。常规真空镀膜材料如SiO₂、MgF₂、Ti₃O₅、ZrO₂等，存在底色为透明问题，无法满足基片对多种颜色的要求。例如，通过真空条件下蒸镀金属材料，可以达到透过率为2-3级的要求，但是金属膜层形变能力差，在高温条件下受应力影响，容易发生膜开裂。

本发明采用氧化钛和氧化铌的混合物，通过调整二者的比例，以及膜层的厚度，来获得特定的基片颜色，同时满足透过率分级变化的要求。茶色镜片的透过率可以分布在1和2等级；灰色基片的透过率可以分布在2和3等级；黑色基片的透过率可以分布在3和4等级。

具体的，当染色材料中，氧化钛的含量为25-45wt％，氧化铌的含量为55-75wt％，形成染色层的厚度为500-2000埃，得到茶色基片。优选地，氧化钛的含量为30-40wt％，氧化铌的含量为60-70wt％，形成染色层的厚度为1300-1900埃。

当染色材料中，氧化钛的含量为15-35wt％，氧化铌的含量为65-85wt％，形成染色层的厚度为2050-3500埃，得到灰色基片。优选地，氧化钛的含量为20-30wt％，氧化铌的含量为70-80wt％，形成染色层的厚度为2300-3300埃。