[发明专利]显微成像方法、显微成像模组、终端设备及存储介质

权利要求书

1.一种显微成像方法，其特征在于，所述显微成像方法应用于终端设备，所述终端设备配置有显微成像模组，所述显微成像模组包括补光装置和超光谱滤光片，其中，所述补光装置包括第一波段补光灯、第二波段补光灯以及导光柱，所述第一波段补光灯和所述第二波段补光灯分别设置在所述导光柱的两侧；所述方法包括：

获取微距拍摄指令，并确定所述微距拍摄指令对应的拍摄模式；

基于所述拍摄模式，在所述第一波段补光灯和所述第二波段补光灯中确定目标补光灯，并确定所述超光谱滤光片的工作状态；

基于所述目标补光灯和所述超光谱滤光片的工作状态进行微距拍摄，获得初始图像；

按照所述拍摄模式对应的校正数据对所述初始图像进行校正处理，获得微距图像。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述第一波段补光灯，用于在被开启时产生第一波段的光进行补光处理；

所述第二波段补光灯，用于在被开启时产生第二波段的光进行补光处理。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述显微成像模组还包括驱动器，

当所述超光谱滤光片的工作状态为驱动状态时，所述超光谱滤光片被所述驱动器驱动至工作区域，用于滤除所述第二波段以外的其他波段的光；

当所述超光谱滤光片的工作状态为待机状态时，所述超光谱滤光片保持在待工作区域。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一波段为可见光波段，所述第二波段为紫外波段。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述拍摄模式包括可见光模式、荧光模式以及超光谱模式，相应的，所述基于所述拍摄模式，在所述第一波段补光灯和所述第二波段补光灯中确定目标补光灯，并确定所述超光谱滤光片的工作状态，包括：

若所述拍摄模式为所述超光谱模式，则所述目标补光灯为所述第二波段补光灯，所述超光谱滤光片的工作状态为所述驱动状态；

若所述拍摄模式为所述荧光模式，则所述目标补光灯为所述第二波段补光灯，所述超光谱滤光片的工作状态为所述待机状态；

若所述拍摄模式为所述可见光模式，则所述目标补光灯为所述第一波段补光灯，所述超光谱滤光片的工作状态为所述待机状态。

6.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，所述显微成像模组还包括镜头和成像传感器，其中，所述补光装置和所述超光谱滤光片沿着入射光方向分别设置在所述镜头的两侧，所述镜头和所述成像传感器沿着入射光方向分别设置在所述超光谱滤光片的两侧。

7.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，所述按照所述拍摄模式对应的校正数据对所述初始图像进行校正处理，获得微距图像之前，所述方法还包括：

对所述第一波段补光灯进行标定处理，获得第一敏感度差异数据；对所述第二波段补光灯进行标定处理，获得第二敏感度差异数据；

对所述第一敏感度差异数据进行归一化处理，获得第一校正矩阵；对所述第二敏感度差异数据进行归一化处理，获得第二校正矩阵；

基于所述拍摄模式，从所述第一校正矩阵和所述第二校正矩阵确定所述校正数据。

8.一种显微成像模组，其特征在于，所述显微成像模组设置有补光装置和超光谱滤光片；其中，所述补光装置包括第一波段补光灯、第二波段补光灯以及导光柱，所述第一波段补光灯和所述第二波段补光灯分别设置在所述导光柱的两侧；

显微成像模组，用于基于微距拍摄指令对应的拍摄模式，在所述第一波段补光灯和所述第二波段补光灯中确定目标补光灯，并确定所述超光谱滤光片的工作状态之后，基于所述目标补光灯和所述超光谱滤光片的工作状态进行微距拍摄，获得初始图像，以按照所述拍摄模式对应的校正数据对所述初始图像进行校正处理，获得微距图像。

9.根据权利要求8所述的显微成像模组，其特征在于，

所述第一波段补光灯，用于在被开启时产生第一波段的光进行补光处理；

所述第二波段补光灯，用于在被开启时产生第二波段的光进行补光处理。