[发明专利]一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置

权利要求书

1.一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，其特征在于：包括本体，所述本体安装于进气道内部，所述本体包括发生器，所述发生器设有三角形斜坡，所述三角形斜坡上设有射流孔(1)，所述发生器内设有射流激励器，所述射流激励器与所述射流孔(1)连通，所述射流激励器内安装有电源机构。

2.根据权利要求1所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，其特征在于：所述发生器为涡流发生器(2)。

3.根据权利要求2所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，其特征在于：所述射流激励器为等离子体合成射流激励器(3)，所述等离子体合成射流激励器(3)内中空且安装有所述电源机构。

4.根据权利要求3所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，其特征在于：所述涡流发生器(2)内固接有台型底座(4)，所述等离子体合成射流激励器(3)固接在所述台型底座(4)上，所述电源机构包括分别固接在所述台型底座(4)顶面的高压电极(5)和低压电极(6)，所述高压电极(5)和低压电极(6)的顶部位于所述等离子体合成射流激励器(3)内，所述高压电极(5)和所述低压电极(6)的底部伸出至所述涡流发生器(2)的底部。

5.根据权利要求4所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，其特征在于：所述高压电极(5)和所述低压电极(6)之间存在间隙。

6.根据权利要求5所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，其特征在于：所述涡流发生器(2)和所述台型底座(4)的材料为陶瓷。

7.根据权利要求1所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，其特征在于：所述射流孔(1)的长度为5-8mm，宽度为0.8-2mm，厚度为0.7-2mm。

8.根据权利要求2所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，其特征在于：所述涡流发生器(2)的底面三角形腰长为20-30mm，底边长为10-20mm，所述涡流发生器(2)垂直方向上的高度为10-20mm。