[发明专利]一种OLED显示设备及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202210553309.8 申请日: 2022-05-20
公开(公告)号: CN114784210A 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 史丽娜;王冲;尚潇;李龙杰;陈生琼;胡劲宇 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 王玉璇
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 oled 显示 设备 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种OLED显示设备,其特征在于,包括:

OLED基底;

位于所述OLED基底之上的全反射镜层,其中,所述全反射镜层包括超表面结构,所述超表面结构为圆柱阵列纳米结构;

位于所述全反射镜层之上的平坦层;

位于所述平坦层之上的阳极;

位于所述阳极之上的发光层;

位于所述发光层之上的阴极;

位于所述阴极之上的覆盖层。

2.如权利要求1所述的OLED显示设备,其特征在于,所述全反射镜层还包括铝薄膜,所述铝薄膜位于所述OLED基底之上,所述超表面结构位于所述铝薄膜之上。

3.如权利要求1所述的OLED显示设备,其特征在于,所述圆柱阵列纳米结构呈表面等离激元共振的调制相位。

4.如权利要求1所述的OLED显示设备,其特征在于,所述圆柱阵列纳米结构包括多个圆柱阵列,所述多个圆柱阵列呈周期性排列,且所述多个圆柱阵列中的每个圆柱阵列为正方形阵列。

5.如权利要求4所述的OLED显示设备,其特征在于,所述每个圆柱阵列包括多个圆柱体,所述圆柱体的直径范围为60纳米至100纳米。

6.如权利要求5所述的OLED显示设备,其特征在于,所述圆柱体的高度范围为40纳米至60纳米。

7.如权利要求5所述的OLED显示设备,其特征在于,在所述每个圆柱阵列中,相邻圆柱体的圆心之间的距离范围为175纳米至185纳米。

8.如权利要求1所述的OLED显示设备,其特征在于,所述阳极的材质包括:掺锡氧化铟。

9.如权利要求1所述的OLED显示设备,其特征在于,所述阴极的材质包括:银镁合金。

10.一种OLED显示设备的制造方法,其特征在于,包括:

在OLED基底之上形成全反射镜层,其中,所述全反射镜层包括超表面结构,所述超表面结构为圆柱阵列纳米结构;

在所述全反射镜层之上形成平坦层;

在所述平坦层之上形成阳极;

在所述阳极之上形成发光层;

在所述发光层之上形成阴极;

在所述阴极之上形成覆盖层。

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