[发明专利]透明显示面板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210566674.2 申请日: 2022-05-23
公开(公告)号: CN114975735A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 徐传祥;王峰;焦士搏;岳阳;于勇;李翔;李少辉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L33/54 分类号: H01L33/54;H01L33/58;H01L33/00;H01L27/15
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 透明 显示 面板 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种透明显示面板,其特征在于,包括:

基板,具有透明区和显示区;

发光器件层,覆设于所述基板一侧的显示区;

黑色矩阵,间隔分布于所述发光器件层远离所述基板的一侧;

封装层,一部分所述封装层覆设于所述基板的透明区,另一部分所述封装层覆设于所述发光器件层和所述黑色矩阵。

2.根据权利要求1所述的透明显示面板,其特征在于,所述透明显示面板还包括第一导电种子层,所述第一导电种子层位于所述黑色矩阵与所述发光器件层之间。

3.根据权利要求2所述的透明显示面板,其特征在于,所述黑色矩阵在所述基板上的正投影覆盖所述第一导电种子层在所述基板上的正投影。

4.一种透明显示面板的制备方法,其特征在于,包括:

提供基板,所述基板具有显示区和透明区;

在所述基板的显示区制备发光器件层;

在所述基板的透明区制备牺牲层;

在所述发光器件层和所述牺牲层均远离所述基板的一侧制备遮光材料层;

图案化所述遮光材料层,形成黑色矩阵,所述黑色矩阵位于部分所述发光器件层远离所述基板的一侧;

去除所述牺牲层。

5.根据权利要求4所述的透明显示面板的制备方法,其特征在于,在所述基板的透明区制备牺牲层的步骤中包括:

在所述基板的一侧制备导电种子层,所述导电种子层包括覆设于所述发光器件层的第一导电种子层和覆设于所述基板的透明区的第二导电种子层;

在所述第一导电种子层远离所述基板的一侧制备挡墙;

在所述第二导电种子层远离所述基板的一侧制备导电生长层,所述第二导电种子层与所述导电生长层形成所述牺牲层。

6.根据权利要求5所述的透明显示面板的制备方法,其特征在于,在所述基板的透明区制备所述导电生长层,使得所述导电生长层的上表面高度不小于所述第一导电种子层的上表面高度的1/2、且不大于所述第一导电种子层的上表面高度的3/2。

7.根据权利要求6所述的透明显示面板的制备方法,其特征在于,在所述发光器件层和所述牺牲层远离所述基板的一侧制备遮光材料的步骤中包括:

去除所述挡墙;

在所述第一导电种子层和所述牺牲层均远离所述基板的一侧制备所述遮光材料。

8.根据权利要求5所述的透明显示面板的制备方法,其特征在于,在所述基板的透明区制备所述导电生长层,使得所述导电生长层的上表面高度不小于所述发光器件层的上表面高度的1/2、且不大于所述发光器件层的上表面高度的3/2。

9.根据权利要求8所述的透明显示面板的制备方法,其特征在于,在所述发光器件层和所述牺牲层远离所述基板的一侧制备遮光材料的步骤中包括:

去除所述挡墙和所述第一导电种子层;

在所述发光器件层和所述牺牲层均远离所述基板的一侧制备所述遮光材料。

10.根据权利要求5所述的透明显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第二导电种子层远离所述基板的一侧制备导电生长层的步骤中包括:

在所述第二导电种子层远离所述基板的一侧制备金属层,所述金属层形成所述导电生长层,所述金属层包括铜、镍、金、钯镍、锡铅和银中的至少一种。

11.根据权利要求5所述的透明显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第一导电种子层远离所述基板的一侧制备挡墙的步骤中包括:

在所述第一导电种子层和所述第二导电种子层均远离所述基板的一侧涂覆正性光刻胶以形成挡墙材料层;

将所述挡墙材料层图案化,露出所述第二导电种子,得到位于所述第一导电种子层远离所述基板一侧的所述挡墙。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210566674.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top