[发明专利]一种富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方及其制备方法

权利要求书

1.一种富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，以质量百分数计，包括4%~6%乳化剂、10%~18%粉类、8%~15%成膜剂、20%~30%润肤剂、1%~2%增稠剂、2%~6%调理剂、0.5%~2%防腐剂、10%~15%保湿剂、0.5%~2%抗敏舒缓剂，剩余为酵母发酵液；所述抗敏舒缓剂为BLUSH Oléoactif，酵母发酵液为Supferm PO；

所述Supferm PO的制备工艺为：准备马铃薯发酵底物和酵母菌为发酵底物，将10g酵母菌C-SFF-9菌液接种到300g马铃薯发酵底物中，在温度为25℃，且搅拌的条件下发酵培养36小时，搅拌的转速为170rpm；制得的物料转移到离心机中，在转速为4000rpm的条件离心30min，收集上清液，上清液在90℃的条件下灭菌30min；灭菌后，降温，在70℃条件下与防腐剂混合即可得到目标产物Supferm PO；

所述成膜剂为丙烯酸酯类成膜剂与MQ树脂成膜剂按照质量比1~2:4~6搭配；

所述底妆配方包括粉底液、粉霜、隔离乳或遮瑕膏。

2.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述乳化剂包括月桂基聚二甲基硅氧烷/聚甘油-3 交联聚合物或月桂基聚甘油-3 聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷中的一种以上。

3.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述粉体包括氧化铁类和三乙氧基甲硅烷基乙基聚二甲基硅氧乙基己基聚二甲基硅氧烷、二氧化钛和三乙氧基辛基硅烷或二氧化钛和硬脂酸和氧化铝中的一种以上。

4.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述丙烯酸（酯）类成膜剂包括丙烯酸（酯）类/聚二甲基硅氧烷共聚物(和）聚二甲基硅氧烷或丙烯酸（酯）类/聚二甲基硅氧烷共聚物(和）异十二烷；所述MQ树脂成膜剂包括三甲基硅烷氧基硅酸酯和聚二甲基硅氧烷或，三甲基硅烷氧基硅酸酯和异十二烷。

5.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述润肤剂为聚二甲基硅氧烷、丁基辛醇水杨酸酯或羟基硬脂酸乙基己酯中的一种以上。

6.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述增稠剂为二硬脂二甲铵锂蒙脱石或黄原胶中的一种以上。

7.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述调理剂为聚二甲基硅氧烷和聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷交联聚合物、聚甲基硅倍半氧烷或，二苯基聚二甲基硅氧烷/乙烯基二苯基聚二甲基硅氧烷/倍半硅氧烷交联聚合物一种以上。

8.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述防腐剂为对羟基苯乙酮；

所述保湿剂为甘油、丁二醇或1,2-己二醇中的一种以上。

9.根据权利要求1所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方，其特征在于，所述BLUSH Oléoactif的制备工艺为：收获蓼蓝叶后，将蓼蓝叶在水中浸泡数小时至数天，然后过滤溶液得到蓝色滤渣；将滤渣干燥至含水量为6%％~12%，进行低温研磨，得到蓝色粉末；将粉末与油菜籽油混合，在氮气的保护下，在高能微波和低能超声波作用下，产生外应力和内应力，打破植物细胞壁，高效提取活性成分；再经微孔过滤，得到目标产物BLUSH Oléoactif。

10.权利要求1~9任一项所述富含酵母发酵液Supferm PO的抗敏舒缓底妆配方的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：将部分增稠剂用部分润肤剂分散，后加入乳化剂，高速均质，均质力度为3000~8000r/min，均质时间为3min~10min，得到组分A；

步骤2：将粉类、润肤剂混合，均质分散，均质力度为3000~8000r/min，均质时间为3min~10min，得到组分B；

步骤3：将组分A和组分B混合均匀，得组分C；

步骤4：将成膜剂、抗敏舒缓剂及部分调理剂依次加入组分C，低速均质，均质力度为3000~8000r/min，均质时间为3min~10min，得到组分D；

步骤5：将防腐剂和保湿剂保温加热到60℃~85℃搅拌5min~10min至溶解，加入部分增稠剂分散，后加入部分调理剂及酵母发酵液，溶解，低速均质，均质力度为3000~8000r/min，均质时间为3min~10min，得到组分E；

步骤6：组分D在搅拌的状态下，搅拌机速度为400~500r/min，缓慢加入组分E，加完后，用均质机均质，均质力度为3000~8000r/min，均质时间为3min~10min；均质完搅拌，搅拌机速度为500~700r/min，搅拌3min~5min，即可得到目标底妆配方。