[发明专利]一种64阶灰度像素结构、显示介质在审

专利信息
申请号: 202210573900.X 申请日: 2022-05-25
公开(公告)号: CN114927105A 公开(公告)日: 2022-08-19
发明(设计)人: 谢志梅;王德麾;钟勇;姜世平;董小春 申请(专利权)人: 四川芯辰光微纳科技有限公司
主分类号: G09G3/34 分类号: G09G3/34
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 周浩杰
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 64 灰度 像素 结构 显示 介质
【说明书】:

发明公开了一种64阶灰度像素结构、显示介质,属于显示设备技术领域,包括像素组和像素驱动电极,由像素驱动电极驱动像素组显示,所述像素组包括0号灰阶像素结构、1到9号灰阶像素结构、10到17号灰阶像素结构、18到32号灰阶像素结构、33到63号灰阶像素结构。本发明在满足工艺可实现的最小线宽约束下,通过划分为多个独立区域,或更纤细的结构,使得人眼更加难以分辨细节,能够获得更为柔和的显示效果。

技术领域

本发明涉及显示设备技术领域,更为具体的,涉及一种64阶灰度像素结构、显示介质。

背景技术

双态显像,是指即能呈现“黑白”两种状态,比如单色油墨印刷,任何油墨滴皆是同样的黑色,通过调整油墨滴在纸面上的分布密度,令人眼产生灰度的视觉效果。同样的,透光/不透光也是一种双态显像,可以利用类似原理实现灰度显示的视觉效果。

但如采用以上方法实现n阶灰度(如64阶灰度),需要在成像介质单位面积上做出n种液滴分布密度,如64种分布密度。对于靠近全黑、全白的密度分布,即“非常接近于白”或“非常接近于黑”的灰阶,会产生细微结构(如在介质基底为作为“白色”时,每个作为“黑色”的液滴须非常细小,分布非常稀疏,以实现非常接近于全白的灰阶)。

细微结构的产生,非常不利于其与介质基底的附着,容易脱落和磨损,表现为宏观图案灰阶缺失、缺损等。此外需要更为精密昂贵的设备以产生精密的细微结构,在实际应用中,因高端设备稀缺和应用成本高,导致难以生成更具表现力的多灰阶图像。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种64阶灰度像素结构、显示介质,在满足工艺可实现的最小线宽约束下,通过划分为多个独立区域,或更纤细的结构,使得人眼更加难以分辨细节,能够获得更为柔和的显示效果。

本发明的目的是通过以下方案实现的:

一种64阶灰度像素结构,包括像素组和像素驱动电极,由像素驱动电极驱动像素组显示图案,所述像素组包括0号灰阶像素结构、1到9号灰阶像素结构、10到17号灰阶像素结构、18到32号灰阶像素结构、33到63号灰阶像素结构。

进一步地,所述0号灰阶像素结构在电驱动下的显示图案,在像素区域全部覆盖,无任何覆盖图形。

进一步地,所述1到9号灰阶像素结构在电驱动下的显示图案,均全覆盖像素区域内,且分别设置1到9个直径4微米的圆形通光区域;并且所述通光区域均匀分布在像素区域内;所有通光区之间最近距离大于等于4微米;所有通光区距离像素区边界最小距离大于等于2微米。

进一步地,所述10到17号灰阶像素结构在电驱动下的显示图案,均全覆盖像素区域内,设置9个独立圆形通光区域;均匀分布在像素区域内;9个独立圆形通光区域具有相同的直径;所有通光区之间最近距离大于等于4微米;所有通光区距离像素区域边界最小距离大于等于2微米。

进一步地,所述18到32号灰阶像素结构在电驱动下的显示图案,全覆盖像素区内,存在4个圆角矩形通光区域;均匀分布在像素区域内;4个圆角矩形通光区域具有完全相同的形状;圆角半径为2微米;所有通光区之间最近距离大于等于4微米;所有通光区距离像素区边界最小距离大于等于2微米;18到32灰阶中,第j号灰阶图案通光区域和像素区面积比,等于j/63。

进一步地,所述33到63号灰阶像素结构在电驱动下的显示图案,将0到31号灰阶图案取反,即遮光区变为通光区,通光区变为遮光区,依次得到33-63号灰阶图像。

进一步地,所述63号灰阶像素结构在电驱动下的显示图案,像素区域全部覆盖,无任何覆盖图形。

进一步地,10到17号灰阶图案中的通光圆区域直径渐次增大,且10到17号灰阶图案中,第i号灰阶图案的通光区面积和像素区面积比等于i/63。

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