[发明专利]一种细旦低克重芳纶浸胶织物及加工系统、方法和应用

权利要求书

1.一种细旦低克重芳纶浸胶织物，其特征在于，经、纬向均采用细旦对位芳纶长丝制备细旦低克重芳纶织物坯布，所述的细旦低克重芳纶织物坯布依次连续经过等离子体处理、上胶处理得到所述的细旦低克重芳纶浸胶织物。

2.根据权利要求1所述的一种细旦低克重芳纶浸胶织物，其特征在于，所述细旦低克重芳纶织物坯布克重18～84g/m²，所述细旦低克重芳纶织物坯布幅宽500mm～1500mm。

3.根据权利要求1所述的一种细旦低克重芳纶浸胶织物，其特征在于，经、纬向对位芳纶长丝纤维均为50D～200D，强度＞20cN/dtex，所述细旦低克重芳纶织物坯布的经、纬向密度均为50～200根/10cm。

4.一种根据权利要求1-3任意一项所述细旦低克重芳纶浸胶织物的加工系统，其特征在于，所述的加工系统包括织造装置(1)、等离子体处理装置(2)和上胶装置(3)；

所述的织造装置包括可两侧上经纱筒子(102)的多锭位纱架(101)，以及位于多锭位纱架(101)前端的红外断经自停机构(103)，经纱从经纱筒子(102)退绕，经过红外断经自停机构(103)到集丝板(104)有序排列，所述集丝板(104)后端设有张力调节辊(105)和假轴(106)，所述张力调节辊(105)和假轴(106)控制各处经纱张力均匀一致；所述假轴(106)后端是剑杆织机的后梁和综框(107)，以及综框(107)后端用于打纬的钢筘(108)；经、纬纱按组织设计形成细旦低克重芳纶织物坯布，细旦低克重芳纶织物坯布经由卷绕辊(109)依次送往等离子体处理装置(2)和上胶装置(3)得到所述的细旦低克重芳纶浸胶织物。

5.根据权利要求4所述细旦低克重芳纶浸胶织物的加工系统，其特征在于，所述织造装置的多锭位纱架(101)上设有经纱张力器(110)和导丝滑轮(111)。

6.根据权利要求4所述细旦低克重芳纶浸胶织物的加工系统，其特征在于，所述的等离子体处理装置(2)包括气体罐(201)、表面带有均匀进气孔的金属极板(202)、石英玻璃板(203)和射频(204)，所述石英玻璃板(203)位于两块金属极板(202)之间；

所述上胶装置(3)包括浸胶槽(301)、浸胶辊(302)、压辊(303)、热箱(304)、加热驱动辊(305)、冷却箱(306)、覆膜机构(307)和装置最后的卷布辊(308)，所述的浸胶辊(302)位于所述浸胶槽(301)内，所述加热驱动辊(305)位于所述热箱(304)内。

7.一种根据权利要求1-6任意一项所述细旦低克重芳纶浸胶织物的加工方法，其特征在于，所述的加工方法包括如下步骤：

S1、原料准备：所述细旦低克重芳纶浸胶织物经、纬向均采用50D～200D对位芳纶长丝；

S2、织造：采用带假轴的剑杆织机按照织物组织设计进行织造，经纱从经纱筒子(102)退绕，依次经过纱张力器(110)、导丝滑轮(111)、红外断经自停机构(103)和集丝板(104)，再通过张力调节辊(105)和假轴(106)，保证后梁处经纱张力一致，根据组织设计有规律升降综框(107)，由钢筘(108)打纬形成细旦低克重芳纶织物坯布，细旦低克重芳纶织物坯布经由卷绕辊(109)送往等离子体处理装置(2)；

S3、等离子体处理：采用开放式介质阻挡放电常压等离子体处理细旦低克重芳纶织物坯布，等离子体处理装置与织造装置同步工作，等离子体处理装置(2)释放的高能粒子活化处理细旦低克重芳纶织物坯布，所述等离子体处理装置(2)的放电功率根据织物的织造速度调整；

S4、上胶处理：所述的上胶处理包括浸胶、烘烤、冷却、覆膜和收卷，上胶过程与织造和等离子体处理同步工作，采用二浸二轧工艺，保证织物浸胶充分，胶料被覆均匀，结合牢度高；经热箱(304)烘烤后，再进入冷却箱(306)降温，然后通过覆膜机构(307)进行上下覆膜，由卷布辊(308)收卷，卷装紧实，得到所述的细旦低克重芳纶浸胶织物。