[发明专利]相位板的制作方法、相位板和电子装置

权利要求书

1.一种相位板的制作方法，其特征在于，包括：

在基底上设置胶层，所述胶层包括背离所述基底的背面；

处理所述胶层的背面以得到相位面，从而形成所述相位板。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述相位面的相位分布满足以下条件：

z＝0.03*x3+0.03*y3；

其中，z为相位面沿光轴方向在坐标为(x，y)的位置时，距中心顶点的距离矢高，x、y分别为相位面的坐标，相位板的机械中心坐标为(0，0)。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述处理所述胶层的背面以得到相位面包括：

采用对所述胶层的背面进行曝光以形成图形；

对所述图形进行显影以得到所述相位面。

4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述对所述图形进行显影以得到所述相位面，包括：

利用激光直写设备对所述图形进行激光直写加工以得到所述相位面。

5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述激光直写设备包括多个反射透镜和一个聚焦透镜，所述聚焦透镜用于将所述反射透镜反射的激光聚焦在所述胶层上，所述利用激光直写设备对所述图形进行激光直写加工以得到所述相位面，包括：

调整至少一个所述反射透镜的位姿，以改变聚焦透镜聚焦的激光光斑在所述胶层上的位置；

调整激光能量以调整激光在所述胶层上蚀刻的深度，从而对所述图形加工以得到所述相位面。

6.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

在所述图形的周围设置多个标记，所述标记用于识别所述相位面的位置。

7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

清洗所述胶层上的杂质。

8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述处理所述胶层的背面以得到相位面包括：

提供一模具；

将所述模具在所述胶层的背面上压印从而形成所述相位面。

9.一种相位板，其特征在于，所述相位板通过权利要求1-8任一项所述的制作方法制作而成。

10.一种电子装置，其特征在于，包括权利要求9所述的相位板。