[发明专利]一种提高6um中抗拉锂电铜箔延伸率的方法

说明书

本发明公开了一种提高6um中抗拉锂电铜箔延伸率的方法，将制备好的硫酸铜电解液经过过滤后储存在净液罐中；将作为电镀添加剂的光亮剂、走位剂和整平剂分别配制并且分别暂存储在光亮剂配制罐、走位剂配制罐与整平剂配制罐中；将得到的光亮剂、走位剂和整平剂加入到添加剂储液罐中得到混合添加剂，将混合添加剂通过流量泵流向净液罐和硫酸铜电解液混合均匀；通过进液分配器将含有混合添加剂的硫酸铜电解液输送至阳极槽中进行电解生箔。本发明的提高6um中抗拉锂电铜箔延伸率的方法，依靠合理的添加剂配方，通过增大铜箔晶核生长，增大晶粒尺寸，最终达到增大中抗拉锂电铜箔延伸率的效果。

技术领域

本发明涉及锂电铜箔制备技术领域，具体来说，涉及一种提高6um中抗拉锂电铜箔延伸率的方法。

背景技术

随着锂电市场行情飞速的发展，市场对中抗拉铜箔需求量日益增加，众所周知电解铜箔作为锂离子电池负极集流体和活性材料的载体，其性能直接影响电池的容量和循环寿命。铜箔的延伸率越低，越易产生极片断裂等问题，这些问题将影响下游产品制作的成品率、电池容量及循环寿命等，因此，如何提高6um中抗拉锂电铜箔延伸率是锂电铜箔行业亟需解决的问题。

发明内容

针对相关技术中的上述技术问题，本发明提出一种提高6um中抗拉锂电铜箔延伸率的方法，能够克服现有技术的上述不足。

为实现上述技术目的，本发明的技术方案是这样实现的：

一种提高6um中抗拉锂电铜箔延伸率的方法，该方法包括以下步骤：

S1将制备好的硫酸铜电解液经过过滤后储存在净液罐中；

S2将作为电镀添加剂的光亮剂、走位剂和整平剂分别按照2mg/L、6mg/L、2mg/L的浓度配制并且分别暂存储在光亮剂配制罐、走位剂配制罐与整平剂配制罐中；

S3将步骤S2中得到的光亮剂、走位剂和整平剂加入到添加剂储液罐中得到混合添加剂，将混合添加剂通过流量泵以3.5L/h流向净液罐和硫酸铜电解液混合均匀；

S4通过进液分配器将含有混合添加剂的硫酸铜电解液输送至阳极槽中进行电解生箔。

进一步地，所述净液罐中硫酸铜电解液的温度为55-60℃。

进一步地，所述净液罐中硫酸铜电解液的铜离子浓度为95-100g/L，硫酸浓度为115±2g/L。

进一步地，电解生箔过程中的电流密度为65±5A/dm²。

进一步地，进液分配器输送含有混合添加剂的硫酸铜电解液的流速为50m³/h。

进一步地，所述光亮剂包括MPS(3-巯基-1丙烷磺酸钠)。

进一步地，所述走位剂包括PEG6000。

进一步地，所述整平剂包括胶原蛋白。

本发明的有益效果：依靠合理的添加剂配方，通过增大铜箔晶核生长，增大晶粒尺寸，最终达到增大中抗拉锂电铜箔延伸率的效果，从而减少锂电池在多次充放电使用过程中因电芯膨胀造成铜箔负极材料断裂，从而大大提高电池循环使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本发明实施例所述的提高6um中抗拉锂电铜箔延伸率的方法的工艺流程图；

图2是根据本发明实施例1所述的铜箔端面晶粒图；

图3是根据本发明实施例2所述的铜箔端面晶粒图；