[发明专利]一种超黑光吸收涂层及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202210583812.8 申请日: 2022-05-27
公开(公告)号: CN114672184A 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 马琛;林再鸣;陈国华 申请(专利权)人: 华侨大学
主分类号: C09D5/32 分类号: C09D5/32;C09D7/80
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 李博
地址: 362021 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 黑光 吸收 涂层 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种超黑光吸收涂层的制备方法,包括以下步骤:

(1)将碳纳米管、树脂、有机助剂、无水乙醇和水混合,得到混合浆料;

(2)将所述步骤(1)得到的混合浆料涂覆到基体后进行等离子体刻蚀,得到超黑光吸收涂层;

所述步骤(1)的混合浆料中碳纳米管、树脂、有机助剂、无水乙醇和水的质量百分比分别为1~5%、35~50%、12~22%、10~20%和11~39%。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中的树脂包括氯醋树脂、环氧树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、聚乙烯醇和乙烯基树脂中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中的有机助剂包括分散剂、润湿剂和消泡剂中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中碳纳米管的长度为1~500μm,碳纳米管的直径为5~30nm。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中等离子体刻蚀的射频电源输出功率为180~200W。

6.根据权利要求1或5所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中等离子体刻蚀的时间为8~18min。

7.根据权利要求1或5所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中等离子体刻蚀时涂层区域与射频电源间距为18~22cm。

8.权利要求1~7任意一项所述制备方法制备的超黑光吸收涂层。

9.权利要求8所述超黑光吸收涂层在光吸收涂层中的应用。

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