[发明专利]投影光机和投影设备

权利要求书

1.一种投影光机，其特征在于，所述投影光机沿光路依次包括发光装置、准直装置、中继装置以及成像装置，所述准直装置中的多个部件沿第一方向依次设置，以对所述发光装置射出的光线进行准直；所述中继装置用于将从所述准直装置射出的光线传导至所述成像装置；所述成像装置中的多个部件沿第二方向依次设置，以用于将光线投射成图像；

所述中继装置包括反射件、中继件以及空间光调制器；所述反射件用于将所述准直装置射出的光线反射至所述中继件；所述中继件用于将从所述反射件射出的光线传导至所述空间光调制器，并用于将从所述空间光调制器射出的光线传导至所述成像装置；

其中，所述第一方向沿竖直方向延伸，所述第二方向在水平面内延伸。

2.根据权利要求1所述的投影光机，其特征在于，所述空间光调制器包括矩形调制面，所述矩形调制面的长度方向与所述第二方向平行，宽度方向与所述第一方向平行。

3.根据权利要求1所述的投影光机，其特征在于，所述中继装置还包括用于对光线进行汇聚的聚焦件；

所述聚焦件构造为第一聚焦透镜，所述第一聚焦透镜用于将所述反射件出射的光线汇聚至所述中继件；或，所述第一聚焦透镜用于将所述准直装置出射的光线汇聚至所述反射件。

4.根据权利要求1所述的投影光机，其特征在于，所述中继装置还包括用于对光线进行汇聚的聚焦件；

所述聚焦件构造为聚焦透镜组，所述聚焦透镜组包括至少两个第二聚焦透镜，所述聚焦透镜组用于将所述准直装置出射的光线汇聚至所述反射件；或，所述反射件用于将其中一个所述第二聚焦透镜出射的光线反射至另一个所述第二聚焦透镜。

5.根据权利要求3或4所述的投影光机，其特征在于，所述聚焦件包括聚焦结构；

所述聚焦结构包括第一光学面、聚焦面、第二光学面以及反射膜，所述反射膜覆盖于所述聚焦面；所述反射件与所述第一光学面相对设置，以用于使经所述反射件反射后的光线通过所述第一光学面透射入所述聚焦结构内并射向所述第二光学面，所述第二光学面能够使光线全反射或部分反射至所述聚焦面，所述聚焦面能够对光线进行汇聚并通过所述反射膜将光线反射至所述第二光学面并从该第二光学面向所述中继件出射。

6.根据权利要求5所述的投影光机，其特征在于，所述中继件包括入光面，所述入光面与所述第二光学面相对且间隔设置，所述入光面和所述第二光学面均设置为平面且相互平行，且所述入光面和所述第二光学面之间的距离在0.01mm至10mm之间。

7.根据权利要求5所述的投影光机，其特征在于，所述第二光学面能够使从所述第一光学面透射的光线的入射角大于所述聚焦结构的全反射角，和/或，所述第二光学面能够使从所述聚焦面反射的光线的入射角小于所述聚焦结构的全反射角。

8.根据权利要求5所述的投影光机，其特征在于，所述第一光学面构造为平面并位于所述第一方向和第三方向限定的平面内，所述第二光学面构造为平面并沿所述第一方向延伸，且所述第二光学面与所述第一光学面之间的夹角小于90度；其中，所述第三方向在水平面内延伸并与所述第二方向相互垂直。

9.根据权利要求5所述的投影光机，其特征在于，所述聚焦面构造为向外凸出的曲面。

10.根据权利要求1所述的投影光机，其特征在于，所述反射件构造为反射平面镜，所述反射平面镜包括用于对光线进行反射的反射平面，所述反射平面沿第三方向延伸、且所述反射平面与所述第二方向和所述第三方向限定的平面之间的夹角小于90度，其中，所述第三方向在水平面内延伸并与所述第二方向相互垂直。