[发明专利]一种晶体生长过程中缺陷监控装备有效
申请号: | 202210595558.3 | 申请日: | 2022-05-30 |
公开(公告)号: | CN114959869B | 公开(公告)日: | 2023-08-15 |
发明(设计)人: | 袁韶阳;冯佳峰;于会永;赵春锋;赵中阳;刘钊;张艳辉;荆爱明 | 申请(专利权)人: | 大庆溢泰半导体材料有限公司 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00;H04N23/50;H04N7/18 |
代理公司: | 黑龙江省百盾知识产权代理事务所(普通合伙) 23218 | 代理人: | 孙淑荣 |
地址: | 163000 黑龙江省大庆市高新区火*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶体生长 过程 缺陷 监控 装备 | ||
1.一种晶体生长过程中缺陷监控装备,包括生长炉(2),生长炉(2)内放置有石英管(3),石英管(3)内放置有同轴的坩埚,坩埚下部设置有支撑装置(7),支撑装置(7)下方设置有旋转装置(8),从而使得石英管(3)及坩埚在生长炉(2)内转动,其特征在于:生长炉(2)的内壁为圆锥面,其中上端为小径端,下端为大径端,生长炉(2)内壁的下部分设置有反射条(1),生长炉(2)与支撑装置(7)之间设置有接受反射信号的监视器,监视器与反射条(1)处于同一相位,监视器外部设置有冷却装置;
所述的反射条(1)为热导体材料制成,反射条(1)的横截面为拱形,从而增加反射视角的宽度。
2.根据权利要求1所述的一种晶体生长过程中缺陷监控装备,其特征在于:所述的冷却装置与生长炉(2)在周向上相对固定设置,冷却装置包括冷却环,冷却环包括上环板(4)和下环板(6),上环板(4)和下环板(6)之间为冷却腔(9),所述的监视器包括摄像头(5),摄像头(5)位于冷却腔(9)内,冷却腔(9)设置有进口(10)和出口(11)。
3.根据权利要求2所述的一种晶体生长过程中缺陷监控装备,其特征在于:所述的摄像头(5)有两个,两个摄像头(5)呈180度相位角分布于冷却腔(9)内,所述的进口(10)和出口(11)同样呈180度相位角分布于冷却腔(9)上,进口(10)分别与两个摄像头(5)呈90度相位角。
4.根据权利要求1所述的一种晶体生长过程中缺陷监控装备,其特征在于:所述的冷却装置下方设置有位移装置,位移装置带动冷却装置相对生长炉(2)的轴向产生位移。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大庆溢泰半导体材料有限公司,未经大庆溢泰半导体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210595558.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。