[发明专利]一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法

权利要求书

1.一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，酸性硅溶胶溶液中加入纳米氧化锡分散液，充分搅拌反应，再加入模板剂搅匀，调pH值，陈化成凝胶，凝胶经干燥、焙烧、粉碎制得粉状氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料。

2.根据权利要求1所述的一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，酸性硅溶胶中二氧化硅的质量百分比浓度为3％～30％，pH≦4.0；酸性纳米氧化锡分散液中，氧化锡的质量百分比浓度为2％～40％，pH≦4.0；纳米氧化锡粒径小于10nm，硅溶胶中纳米二氧化硅粒径小于100nm。

3.根据权利要求2所述的一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，纳米氧化锡粒径≦5nm。

4.根据权利要求3所述的一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，纳米氧化锡均匀弥散分布于纳米二氧化硅之间形成固相，固相中二氧化硅的质量百分比为70％～98％，纳米氧化锡的质量百分比为2％～30％。

5.根据权利要求1所述的一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，纳米氧化锡分散液按比例加入酸性硅溶胶中，搅拌反应温度20℃～100℃，搅拌时间10～100分钟。

6.根据权利要求5所述的一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，纳米氧化锡包括酸性纳米氧化锡、掺锑氧化锡和掺铋氧化锡一项以上。

7.根据权利要求6所述的一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，硅溶胶与氧化锡溶液搅拌反应后，加入二氧化硅质量的5-20％的模板剂，20～100℃搅拌5～30分钟，加入pH调节剂，调pH6～8，静置陈化4～40小时，陈化温度50℃～150℃。

8.根据权利要求7所述的一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，该制备方法中氧化硅、氧化锡、模板剂总固含量质量百分比为5％～20％，余量为水；加入反应物陈化前pH调节剂包括碱金属氢氧化物、氢氧化铵和有机碱一项以上。

9.根据权利要求1-8任意一项所述的一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，模板剂包括表面活性剂、聚乙二醇、柠檬酸和草酸一项以上。

10.根据权利要求9所述的一种氧化锡/氧化硅光触媒多孔纳米复合材料的制备方法，其特征在于，干燥后的凝胶粉碎后，焙烧温度300℃～800℃，时间1～12小时。