[发明专利]一种双SLM协同调制提高数字光刻图形边缘平滑度的方法

权利要求书

1.一种双SLM协同调制提高数字光刻图形边缘平滑度的方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：

(1)以SLM单像素尺寸为离散采样周期，对待曝光连续二维图形进行离散采样，形成一幅二维离散图形；

(2)将步骤(1)得到的二维离散图形拆分为N幅独立的二维离散子图M₁(i,j)、M₂(i,j)、...、M_N(i,j)；

(3)在平行于基底平面上错位配置SLM1和SLM2，且错位距离不大于一个像素；

(4)依次将步骤(2)中的N幅二维离散子图同时分配给SLM1和SLM2显示，通过计算机控制SLM1和SLM2分别按预先设定好的曝光时间依次同时投影二维离散子图在涂覆光刻胶的基底上同一位置进行叠加曝光；

(5)经显影、定影、后烘等工艺后最终可在光刻胶上形成光刻图形。

2.根据权利要求1所述的一种双SLM协同调制提高数字光刻图形边缘平滑度的方法，其特征在于：所述步骤(2)中的二维离散图形按照任意形状拆分成二维离散子图，任意两幅独立的二维离散子图互不重叠，拆分后的所有二维离散子图可以重组成所述二维离散图形。

3.根据权利要求1所述的一种双SLM协同调制提高数字光刻图形边缘平滑度的方法，其特征在于：所述步骤(3)中的错位是指两个SLM投影到基底上的二维离散图形的位置没有一一对应在基底的相同的位置上。

4.根据权利要求1所述的一种双SLM协同调制提高数字光刻图形边缘平滑度的方法，其特征在于：所述步骤(5)中的所述光刻胶包括用于光刻制作的正性或负性胶。