[发明专利]一种低反射绒面结构、制绒添加剂和制绒方法

权利要求书

1.一种制绒添加剂，其特征在于，按质量百分数计，其中的组分包括：0.05%-5%的主形核剂，0.05%-5%的辅助形核剂，0.02%-2%的绒面调节剂，0.005%-0.5%的阴离子表面活性剂和余量的去离子水；

其中，所述主形核剂为羟丙基甲基纤维素、羧甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、羟乙基纤维素、羧甲基壳聚糖和β-环糊精中的一种或几种；所述辅助形核剂为愈创木酚、5-硝基愈创木酚钠和木质素磺酸钠中的一种或几种；所述绒面调节剂为葡萄糖酸钠、苯甲酸钠、咪唑、硝基咪唑和甲基咪唑中的一种或几种。

2.根据权利要求1所述的制绒添加剂，其特征在于，所述阴离子表面活性剂为十二烷基二苯醚二磺酸钠、烷基萘磺酸钠和十二烷基硫酸钠中的一种或几种。

3.一种制绒方法，其特征在于，将硅片放入制绒液中进行反应，所述制绒液为如权利要求1或2所述的制绒添加剂和碱性溶液混合而成。

4.根据权利要求3所述的制绒方法，其特征在于，所述碱性溶液为质量百分数0.3%-3%的氢氧化钠或氢氧化钾溶液；

和/或，所述制绒添加剂与所述碱性溶液的体积百分比为0.2:100-3:100；

和/或，反应温度为70℃-90℃；

和/或，反应时间为240s-600s。

5.一种低反射绒面结构，其特征在于，其采用如权利要求3或4所述的制绒方法制得，所述低反射绒面结构包括设置于硅片表面的多条平行的金字塔链，每条所述金字塔链是由多个金字塔结构单元连接而成，且相邻的两个所述金字塔结构单元相互重叠。

6.根据权利要求5所述的低反射绒面结构，其特征在于，相邻的两条所述金字塔链之间的间距为零，相邻的两条所述金字塔链中的所述金字塔结构单元不重叠。

7.根据权利要求5所述的低反射绒面结构，其特征在于，每条所述金字塔链中相邻的两个所述金字塔结构单元的塔基对角线重叠或者相互平行。

8.根据权利要求7所述的低反射绒面结构，其特征在于，每条所述金字塔链中相邻的两个所述金字塔结构单元沿着所述塔基对角线方向重叠。

9.根据权利要求8所述的低反射绒面结构，其特征在于，重叠区域的面积与其中单个所述金字塔结构单元的塔基面积的比值为0.01-0.81。

10.根据权利要求8所述的低反射绒面结构，其特征在于，重叠区域的面积与其中单个所述金字塔结构单元的塔基面积的比值为0.09-0.49。