[发明专利]一种遮光反射膜、背光模组及其制备方法

权利要求书

1.一种遮光反射膜，其特征在于：将反射材料均质后与遮光材料共挤制得具有双面结构的薄膜，薄膜的一面为反射面，另一面为遮光面，所述反射材料包括光学透明树脂和无机填料，所述遮光材料包括树脂和遮光母料。

2.根据权利要求1所述的一种遮光反射膜，其特征在于：所述反射面包括至少一层由反射材料制得的反射层；所述遮光面包括至少一层由遮光材料制得的遮光层。

3.根据权利要求1所述的一种遮光反射膜，其特征在于：所述光学透明树脂选自聚丙烯树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚碳酸酯中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的一种遮光反射膜，其特征在于：所述无机填料选自碳酸钙、碳酸镁、碳酸锌、氧化钛、氧化锌、氧化铈、氧化镁、硫酸钡、硫化锌、磷酸钙、二氧化硅、氧化铝、云母、云母钛、滑石、粘土、高岭土、氟化锂、氟化钙中的至少一种。

5.根据权利要求3所述的一种遮光反射膜，其特征在于：所述树脂为光学透明树脂，且所述遮光材料与反射材料中选择的光学透明树脂相同或不同。

6.一种遮光反射膜的制备方法，其特征在于：采用权利要求1所述反射材料和遮光材料，将均质后的反射材料和遮光材料分别送入挤出机中，经共挤、拉伸、定型后，即得遮光反射膜。

7.根据权利要求6所述的一种遮光反射膜的制备方法，其特征在于：所述拉伸包括对共挤得到的膜片先纵向拉伸1.5～2倍后，再横向拉伸1.5～2倍。

8.根据权利要求6所述的一种遮光反射膜的制备方法，其特征在于：所述遮光反射膜的厚度为0.05～0.25mm。

9.一种背光模组，其特征在于：含有权利要求1所述遮光反射膜。

10.一种背光模组的制备方法，其特征在于：含有遮光反射膜，所述遮光反射膜采用权利要求6所述方法制得。