[发明专利]缺陷检测方法、装置、缺陷检测系统、设备及介质

说明书

本公开提供了一种缺陷检测方法、装置和缺陷检测系统，所述方法包括：对待检器件进行第一图像采集，得到初检图像；基于所述初检图像，对所述待检器件进行第一缺陷检测；若未通过所述第一缺陷检测，对所述待检器件进行第二图像采集，得到精检图像；其中，所述精检图像的分辨率高于所述初检图像的分辨率；基于所述精检图像，对所述待检器件进行第二缺陷检测。

技术领域

本公开涉及检测技术领域，特别是涉及一种缺陷检测方法、装置、缺陷检测系统、设备及介质。

背景技术

目前，器件的缺陷检测已应用到各种器件制造领域中，缺陷检测主要用于检测器件的待检测区域的缺陷，待检测区域为表面时，需要检测器件的表面是否有裂纹等，通过缺陷检测的器件才能完成出厂交付或进入下一工艺流程。例如，在显示屏的缺陷检测领域，随着显示屏幕向高分辨率、高画质的方向发展，显示屏幕由于设计结构越来越复杂，引起缺陷的几率也大大增加，因此对显示屏的缺陷检测要求也越来越高。

相关技术中，在对器件进行缺陷检测时，一般是对器件进行大量的高分辨率的图像采集，然后基于大量的高分辨率图像进行缺陷检测，此种方式数据量太大，增加了缺陷检测算法的处理时间，检测效率较低。

发明内容

本公开提供了一种缺陷检测方法，所述缺陷检测方法包括：

对待检器件进行第一图像采集，得到初检图像；

基于所述初检图像，对所述待检器件进行第一缺陷检测；

若未通过所述第一缺陷检测，则对所述待检器件进行第二图像采集，得到精检图像；其中，所述精检图像的分辨率高于所述初检图像的分辨率；

基于所述精检图像，对所述待检器件进行第二缺陷检测。

在一种可选的示例中，对所述待检器件进行第二图像采集，得到精检图像，包括：

分别在高曝光和低曝光下对所述待检器件进行第一图像采集，得到高曝光下的高曝光图像和低曝光下的低曝光图像；

对所述高曝光图像和所述低曝光图像进行融合，得到所述精检图像。

在一种可选的示例中，对所述高曝光图像和所述低曝光图像进行融合，得到所述精检图像，包括：

对所述高曝光图像进行降噪处理，得到所述高曝光图像的第一处理后图像；

对所述低曝光图像进行自适应处理，得到所述低曝光图像的第二处理后图像；所述自适应处理用于调整所述低曝光图像的对比度；

将所述第一处理后图像和所述第二处理后图像进行融合，得到所述精检图像。

在一种可选的示例中，对所述低曝光图像进行自适应处理，得到所述低曝光图像的第二处理后图像，包括：

对所述低曝光图像中每个像素点分别在各颜色通道的像素值进行归一化处理；

基于像素值归一化处理后的低曝光图像中每个颜色通道的像素值的平均值，确定每个颜色通道对应的补偿值；

基于每个颜色通道对应的补偿值，对该颜色通道中各个像素点的像素值进行补偿，得到所述第二处理后图像。

在一种可选的示例中，基于每个颜色通道对应的补偿值，对该颜色通道中各个像素点的像素值进行补偿，得到所述第二处理后图像，包括：

基于每个颜色通道对应的补偿值，对该颜色通道中各个像素点的归一化后像素值进行补偿，得到该颜色通道中各个像素点的补偿后值；

对各个像素点的补偿后值进行反归一化处理，得到所述第二处理后图像。

在一种可选的示例中，所述初检图像有多张，不同的初检图像对应所述待检器件的不同区域，基于所述初检图像，对所述待检器件进行第一缺陷检测，包括：