[发明专利]一种氟化物反应釜温控系统及温控装置在审

专利信息
申请号: 202210642170.4 申请日: 2022-06-08
公开(公告)号: CN114950302A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 丁慧云 申请(专利权)人: 丁慧云
主分类号: B01J19/00 分类号: B01J19/00;B01J19/18;B01J4/00;G05D23/20
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摘要:
搜索关键词: 一种 氟化物 反应 温控 系统 装置
【说明书】:

发明公开了一种氟化物反应釜温控系统及温控装置,涉及氟化物反应技术领域,包括底座、设置于底座顶部的反应釜本体、位于反应釜本体右侧的温度调节器、设置于底座顶部的支架、设置于支架顶部的多个加液装置和设置于加液装置底部的调节装置,所述调节装置用于调节多个加液装置加液的顺序和辅助调节加液时反应釜本体内的温度以及温度的时间。在本发明中,通过与反应釜配合的温度调节器、加液装置和调节装置,调节多个加液装置加液的顺序和辅助调节加液时反应釜本体内的温度以及温度的时间,从而便于氟化物大批次的反应。

技术领域

本发明涉及氟化物反应技术领域,尤其涉及一种氟化物反应釜温控系统及温控装置。

背景技术

氟化物指含负价氟的有机或无机化合物。与其他卤素类似,氟生成单负阴离子(氟离子F-)。在氟化物反应中常常通过反应釜作为容器进行反应。

为了满足氟化物中的反应物可以充分、高品质的反应,需要人工实时观测调节反应釜内的反应温度和反应时间,费时费力,不便于氟化物大批次的反应。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中不足的问题,而提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置。

为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:

一种氟化物反应釜温控系统及温控装置,包括底座、设置于底座顶部的反应釜本体、位于反应釜本体右侧的温度调节器、设置于底座顶部的支架、设置于支架顶部的多个加液装置和设置于加液装置底部的调节装置,所述调节装置用于调节多个加液装置加液的顺序和辅助调节加液时反应釜本体内的温度以及温度的时间;

所述加液装置包括加液盒、滑动设置于加液盒内的活塞、开设于加液盒右下部的进液口、嵌设于进液口捏的进液单向阀和设置于加液盒表面与进液口连通的加液管,所述加液管的另一端与外置储液装置连通,所述加液盒顶端开设有气孔,所述加液盒底部开设有出液口,所述加液盒底端设置有与出液口连通的排液管;

所述调节装置包括与支架连接的背板、设置于背板前侧的圆柱状密封盒和转动设置于圆柱状密封盒内部的转板、设置于转板前表面的导液管,所述导液管一端贯穿圆柱状密封盒前端中部与反应釜本体内连通,多个所述排液管远离加液盒的一端与圆柱状密封盒内壁的通孔连通,所述通孔离排液管的一端内滑动设置有用于连通导液管的开启机构,所述转板后侧设置有转杆,所述转杆通过第一电机驱动。

进一步,所述开启机构包括上下滑动设置于通孔内的滑筒,所述滑筒中部中空,远离导液管的一端为封口,所述滑筒前后端均开设有进液孔,所述通孔左右两侧内壁中均开设有与进液孔连通的过液槽,所述过液槽位于靠近排液管的一端,所述通孔靠近排液管的一端内设置有限位块,所述滑筒与限位块之间设置有第一复位弹簧;

所述圆柱状密封盒的内壁设置有与多个滑筒转动连接的多个导向座,所述滑筒一侧设置设置有凸起的滑杆,所述导向座内开设有与滑杆配合的C状滑槽,所述C状滑槽倾斜设置。

进一步,所述导液管端部通过固定座与转板表面连接,所述固定座一侧设置有便于与多个滑筒接触的三角块,所述三角块沿着转板转动方向设置。

进一步,多个所述开启机构和一个过固定座均匀等距的分布于圆柱状密封盒的周向上,且多个所述开启机构连续设置,一个过固定座位于多个开启机构的首尾相接处。

进一步,所述温度调节器包括外壳和设置于外壳内的热介质与冷介质,所述热介质与冷介质分别通过第一输送泵和第二输送泵输送。

进一步,所述反应釜本体下部一侧设置有两个进液管,两个进液管分别与第一输送泵和第二输送泵的输出端连通,所述反应釜本体上部一侧设置有热冷两个出液管,热冷两个出液管分别与热介质和冷介质连通,所述反应釜本体内设置有热冷两个蛇形管,热冷两个蛇形管分别与热冷两个出液管连通。

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