[发明专利]一种光刻胶低温固化厚膜的制备方法

权利要求书

1.一种光刻胶低温固化厚膜的制备方法，所述光刻胶低温固化厚膜的厚度大于15μm，所述制备方法包括如下步骤：

1)在晶圆上涂覆光敏性树脂组合物胶液，匀胶，前烘得到前烘后膜；

2)曝光；

3)显影；

4)固化，得到含第一层固化膜的晶圆；

5)贴覆干膜：在上述晶圆的第一层固化膜上贴覆干膜作为后续继续匀胶的支撑膜；

6)在所述干膜上继续重复步骤1)-4)匀胶、曝光、显影及固化操作，得到含有二层固化膜的晶圆；

7)在所得含有二层固化膜的晶圆上以步骤5)的方法再次贴覆一层干膜，然后重复步骤1)-3)中匀胶、曝光、显影操作，将得到的光刻图形烘烤，得到最终的光刻图案固化膜；

所述干膜通过如下方法制备得到：

在PET支撑板上涂覆胶液，烘干，将PET支撑板上的胶膜转移到所述含第一层固化膜的晶圆上，即可；

其中，所述胶液为步骤1)中的光敏性树脂组合物胶液；

步骤2)中，所述曝光的能量为100mj/cm²-3000mj/cm²。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤1)中，所述光敏性树脂组合物为正型感光性树脂组合物或负型感光性树脂组合物；

匀胶设定的转速为1000rpm*30s-3000rpm*30s；

所述前烘的温度为100-120℃，所述前烘的时间为3-5min；

所得前烘后膜的厚度大约10μm。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤3)中，所述显影的操作为：将曝光后的带有光刻胶膜的晶圆置于显影单元，使晶圆在200rpm-350rpm转速下转动，喷洒显影液8-12s，静止显影时间45-80s；之后喷洒漂洗液去除残留显影液和反应残留物，提高转速到2000-3000rpm将晶圆甩干，即可。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤4)中，所述固化采用鼓风充氮烘箱进行，固化过程中氧含量低于100ppm，固化的温度为180-250℃，固化的时间为30min-4h。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤5)中，所述干膜的厚度为3-5μm。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述干膜通过如下方法制备得到：

在PET支撑板上涂覆胶液，烘干，将PET支撑板上的胶膜转移到所述含第一层固化膜的晶圆上，即可；

其中，所述胶液为步骤1)中的光敏性树脂组合物胶液；

利用涂膜机以5mm/s—100mm/s的线速度在PET支撑板上涂约10-20μm厚的胶膜；

所述烘干的温度为60-100℃，时间为5-15min；

剥离转移过程中使用的压力为20Kpa-100Kpa，温度为50-100℃。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤7)中，所述烘烤在充氮鼓风烘箱内进行，所述烘烤的温度为200-250℃，时间为2-4h。

8.由权利要求1-7中任一项所述方法制备得到的光刻胶低温固化厚膜。

9.根据权利要求8所述的光刻胶低温固化厚膜，其特征在于：所述厚膜的留膜率≥75％，图案分辨率≤10μm。