[发明专利]结晶器内腔尺寸非接触式检测装置及方法和应用

权利要求书

1.一种结晶器内腔尺寸非接触式检测装置，其特征在于，包括：安装基座、非接触式距离检测装置和数据计算单元；其中，

所述安装基座包括基座头和设置在所述基座头底端的基座架；所述基座头设置在结晶器内腔的铜板上口的上方，所述基座架设置在所述结晶器内腔中；在所述基座头的底端所述基座架的侧面设置有中心标记件；在所述基座架的上部设置有高度标记件；所述高度标记件与所述结晶器内腔的铜板上口水平对齐；

所述非接触式距离检测装置包括设置在所述基座架上部的上距离检测装置和设置在所述基座架下部的下距离检测装置；所述上距离检测装置包括与所述结晶器内腔中的左侧窄边铜板和右侧窄边铜板分别对应的左上距离检测件和右上距离检测件；所述下距离检测装置包括与所述结晶器内腔的左侧窄边铜板和右侧窄边铜板分别对应的左下距离检测件和右下距离检测件；

所述数据计算单元分别与所述左上距离检测件、所述右上距离检测件、所述左下距离检测件和所述右下距离检测件连接。

2.根据权利要求1所述的结晶器内腔尺寸非接触式检测装置，其特征在于，所述基座架设置在所述基座头底端的中间位置。

3.根据权利要求1所述的结晶器内腔尺寸非接触式检测装置，其特征在于，所述数据计算单元与所述结晶器内腔的调宽控制系统进行通讯。

4.根据权利要求1所述的结晶器内腔尺寸非接触式检测装置，其特征在于，在所述基座头的底部的四角上设置有高度调整装置，所述高度调整装置的底端设置在所述结晶器内腔的铜板上口的上方。

5.根据权利要求1所述的结晶器内腔尺寸非接触式检测装置，其特征在于，所述基座头通过电磁铁吸盘垂直固定在所述结晶器内腔的上口顶部的结构板上。

6.根据权利要求1所述的结晶器内腔尺寸非接触式检测装置，其特征在于，所述中心标记件包括分别设置在所述基座架的前后两侧壁上的第一中心标尺和第二中心标尺；和/或，

所述高度标记件包括围绕所述基座架侧壁设置的高度标尺；和/或，

所述左上距离检测件、所述右上距离检测件、所述左下距离检测件和所述右下距离检测件均为非接触式距离传感器。

7.根据权利要求1所述的结晶器内腔尺寸非接触式检测装置，其特征在于，所述数据计算单元包括左侧窄边铜板锥度计算单元、右侧窄边铜板锥度计算单元、左侧窄边铜板上口中心距离计算单元和右侧窄边铜板上口中心距离计算单元；其中，

所述左侧窄边铜板锥度计算单元的计算公式为：

所述右侧窄边铜板锥度计算单元的计算公式为：

所述左侧窄边铜板上口中心距离计算单元的计算公式为：

所述右侧窄边铜板上口中心距离计算单元的计算公式为：

其中，Zl为左侧窄边铜板锥度，L为结晶器的窄边铜板长度，Slt为左上距离检测件在窄边铜板上的检测点至结晶器内腔中心线的距离，Slb为左下距离检测件在窄边铜板上的检测点至结晶器内腔的中心线的距离，h1为左上距离检测件与左下距离检测件的中心间距；Zr为右侧窄边铜板锥度，Srt为右上距离检测件在窄边铜板上的检测点至结晶器内腔中心线的距离；Srb为右下距离检测件在窄边铜板上的检测点至结晶器内腔的中心线的距离，h2为右上距离检测件与右下距离检测件的中心间距；Wtl为左侧窄边铜板上口中心距离；a1为左上距离检测件的中心至结晶器内腔的上口距离；Wtr为右侧窄边铜板上口中心距离，a2右上距离检测件的中心至结晶器内腔的上口距离；a1、a2、h1、h2取值范围不超过结晶器的窄边铜板长度L，且a1和a2、h1和h2为等值或不等值。