[发明专利]一种新型的基于一维光栅的干涉位移测量装置在审

专利信息
申请号: 202210672039.2 申请日: 2022-06-15
公开(公告)号: CN114935311A 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 周常河;刘炜程;贾伟;王津 申请(专利权)人: 暨南大学
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 黄卫萍
地址: 510632 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 基于 光栅 干涉 位移 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种新型的基于一维光栅的干涉位移测量装置,其特征在于,所述干涉位移测量装置包括入射光源组件和光栅干涉位移测量组件,其中,

所述入射光源组件包括红光激光光源(1)和光电调制器(2),红光激光器(1)输出的光束入射到光电调制器(2)上;

所述光栅干涉位移测量组件包括反射式光栅(3)、第一透射式光栅(4)、第二透射式光栅(5)、第一反射镜(6)、第二反射镜(7)、偏振分束器(8)、第一光电探测器(9)、第二光电探测器(10)和相位表(11),入射光源组件出射的光源入射到反射式光栅(3)后,光束被分为两束,分别入射到第一透射式光栅(4)、第二透射式光栅(5)后,分别经过第一反射镜(6)、第二反射镜(7)调整后汇聚到偏振分束器(8)上,最后分别被第一光电探测器(9)、第二光电探测器(10)接收后,将信号传给相位表(11),相位表(11)分析比较得出第一光电探测器(9)和第二光电探测器(10)的相位差。

2.根据权利要求1所述的基于一维光栅的干涉位移测量装置,其特征在于,所述入射光源组件出射的光源为差频光。

3.根据权利要求1所述的基于一维光栅的干涉位移测量装置,其特征在于,所述反射式光栅(3)、第一透射式光栅(4)、第二透射式光栅(5)的线密度相同,线密度区间为641线和3225线之间。

4.根据权利要求3所述的基于一维光栅的干涉位移测量装置,其特征在于,所述反射式光栅(3)产生的两束衍射光,一光束为+1级次,另一光束为-1级次,所述反射式光栅(3)沿着反射式光栅(3)的光栅矢量方向移动。

5.根据权利要求3所述的基于一维光栅的干涉位移测量装置,其特征在于,所述第一透射式光栅(4)和第二透射式光栅(5)产生的衍射光为水平平行光。

6.根据权利要求5所述的基于一维光栅的干涉位移测量装置,其特征在于,所述第一反射镜(6)和第二反射镜(7)将第一透射式光栅(4)和第二透射式光栅(5)产生的两束衍射光汇聚于偏振分束器(8)中。

7.根据权利要求6所述的基于一维光栅的干涉位移测量装置,其特征在于,所述偏振分束器(8)将入射光的P偏振光完全透过,将入射光的S偏振光完全反射。

8.根据权利要求1所述的基于一维光栅的干涉位移测量装置,其特征在于,所述第一光电探测器(9)和第二光电探测器(10)用于接收偏振分束器(8)中出射的干涉光,并检测出射干涉光的光强变化。

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