[发明专利]用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液在审
| 申请号： | 202210697188.4 | 申请日： | 2022-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN115181973A | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 王立中;陈修宁;李晨庆;王淑萍;黄志齐 | 申请（专利权）人： | 昆山市板明电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 江苏海联海律师事务所 32531 | 代理人： | 陈宁 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 表面 粗化微蚀液 | ||
1.一种用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于，包括以下组分：
含铜物质，所述含铜物质提供二价铜离子，且二价铜离子浓度为5-55g/L；
含氯物质，所述含氯物质提供氯离子，且氯离子浓度为5-165g/L；
无机酸，浓度为20-200g/L；
脂肪胺，浓度为0.1-10g/L；
水溶性聚合物，浓度为0.05-5g/L，且所述水溶性聚合物为分子链中含有噻唑基团和酰胺基团的聚合物；
以及水。
2.根据权利要求1所述的用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于：所述含铜物质为氯化铜、硫酸铜、纳米氧化铜和碱式碳酸铜中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于：所述含氯物质为盐酸、氯化钠、氯化钙、氯化钾、氯化锌、氯化铁、氯化铝、氯化铜和氯化铵中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于：所述无机酸为盐酸、硫酸和氢溴酸中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于：所述脂肪胺为单乙醇胺、三乙醇胺、乙二胺和二乙烯三胺中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于：所述水溶性聚合物的重均分子量为1000-100000。
7.根据权利要求1所述的用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于：所述水溶性聚合物由烯基噻唑单体和烯基酰胺单体采用自由基聚合形成共聚物。
8.根据权利要求7所述的用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于：所述烯基噻唑单体为4-甲基-5-乙烯基噻唑。
9.根据权利要求7所述的用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于：所述烯基酰胺单体为丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-异丙基丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺和N,N-二甲基丙烯酰胺中的一种。
10.根据权利要求1所述的用于低蚀刻铜表面的粗化微蚀液，其特征在于：二价铜离子浓度为10-45g/L，氯离子浓度为10-100g/L，无机酸的浓度为30-120g/L，脂肪胺的浓度为0.5-5g/L，水溶性聚合物的浓度为0.1-3g/L，以及其余为水。
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