[发明专利]一种蝶阀、半导体设备及蝶阀的控制方法

说明书

本申请公开一种蝶阀、半导体设备及蝶阀的控制方法。该半导体设备包括：反应模块，其内具有反应腔，反应模块上设置有喷淋装置，喷淋装置连接气体供给部，通过喷淋装置向入反应腔内送入反应气体，且反应模块上配置有排气口；及设置于反应模块与抽真空装置之间的蝶阀，该蝶阀包括：抽真空装置，其通过管道连接至反应模块的排气口；阀体及配置于阀体上的控制器，阀体内配置有流道，其内设有呈圆形的阀板，阀板的中部连接转轴，阀体的端部截面呈椭圆状，转轴连接至控制器的输出端，基于控制器的控制转轴旋转带动阀板旋转，以打开或关闭流道。实现0°至90°范围内有效控压，增大了控压范围，增大蝶阀的控压效率，实现用较小的气体流量来保持压力稳定。

技术领域

本申请涉及半导体设备领域，具体地涉及一种蝶阀、半导体设备及蝶阀的控制方法。

背景技术

半导体在制造过程中，反应腔内需要保持气压恒定，目前大都通过蝶阀及抽真空装置的组合抽取来控压。该方式下抽真空装置动作同时配合控制蝶阀的旋转开度使得气体流动进而来控制反应腔内的气压。目前蝶阀，其截面通常为以转轴为中心的同心圆，其阀板开合在0-5°之间时，气体流量变化很小，需要展开到5°以上才能有效控压，蝶阀的控制范围很有限，难以在微小调整中做到平稳控压。

此外，一般对于阀板的运动控制都是线性的，会出现阀板运动过快或过慢情况，使控制稳压的时间过长，并且阀板与阀体的间隙较大，在蝶阀关闭状态下进行保压需要较大的气体流量才可以维持。

发明内容

为克服上述缺点，本申请的目的在于：提供一种基于蝶阀控制的半导体设备及蝶阀的控制方法，该方法能够以较小的气体流量来保持反应腔压力稳定。

为了达到以上目的，本申请采用如下技术方案：

一种蝶阀，其包括：

阀体及配置于阀体上的控制器，

阀体内配置有流道，其内设有呈圆形的阀板，阀板的中部连接转轴，阀体的端部截面呈椭圆状，转轴连接至控制器的输出端，

基于控制器的控制转轴旋转带动阀板旋转，以打开或关闭流道。

可选的，作为一种实施方式的蝶阀，

阀体的两侧分别设置有第一连接部及第二连接部，第一连接部及第二连接部分别与连接管道密封连接。

可选的，作为一种实施方式的蝶阀，

阀板截面在阀体径向的两端为长边在阀体直径方向，短边在气体运动方向的椭圆状弧形，该椭圆方程为y²/a²+x²/b²＝1，其中a为椭圆的长边长度，b为椭圆的短边长度，阀板与通道壁之间的间隙d1＝D/2-a*cosθ，其中D为通道直径，θ为阀板绕转轴旋转的角度。

可选的，作为一种实施方式的蝶阀，

阀板截面两端为偏心距离为R1，边缘半径为R2的偏心圆，并且R1与R2均小于阀板最大半径，阀板与通道壁之间的间隙d2＝D/2-(R1*COSθ+R2)，其中D为通道直径，θ为阀板绕转轴旋转的角度。

可选的，作为一种实施方式的蝶阀，

转轴设置有第一卡槽，阀板嵌置于第一卡槽中，并通过连接件固定连接。

可选的，作为一种实施方式的蝶阀，

第一卡槽的开槽深度与转轴的半径相等。

可选的，作为一种实施方式的蝶阀，

阀板中部设置第二卡槽，第二卡槽的开槽深度为阀板厚度的一半，第一卡槽与第二卡槽配合连接，使阀板与转轴的中轴线重合。

可选的，作为一种实施方式的蝶阀，