[发明专利]异硫氰酸甲酯插层类水滑石及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202210724155.4 申请日: 2022-06-24
公开(公告)号: CN115007205B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 许银;朱珈仪;赵亚辉;李婷;陈跃辉;游志敏 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: B01J31/02 分类号: B01J31/02;B01J23/745;C01G49/00;C02F1/72;C02F101/30;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38
代理公司: 长沙欧诺专利代理事务所(普通合伙) 43234 代理人: 欧颖;陈伟华
地址: 411105*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 氰酸 甲酯插层类水 滑石 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种异硫氰酸甲酯插层类水滑石的应用,其特征在于,异硫氰酸甲酯插层类水滑石作为催化剂在降解含抗生素的有机废水中的应用,其中,所述异硫氰酸甲酯插层类水滑石的制备方法包括以下步骤:

步骤一、将二价金属盐和三价金属盐按预设比例溶解于水溶液中得到混合盐溶液,所述二价金属盐为铜盐和镁盐,所述三价金属盐为铁盐;

步骤二、将所述混合盐溶液和氢氧化物溶液缓慢滴加到装有纯水的反应器中进行搅拌混合,并隔离空气中的CO2,滴加完后的溶液经水浴陈化、抽滤、洗涤、干燥得到铜镁铁类水滑石前驱体;

步骤三、使铜镁铁类水滑石前驱体浸渍于异硫氰酸甲酯溶液中,经超声分散、浸渍、抽滤、洗涤、干燥得到异硫氰酸甲酯插层类水滑石,所述异硫氰酸甲酯插层类水滑石具有异硫氰酸甲酯插层所构建的层间电子通道以产生单线态氧;其中,所述类水滑石前驱体与异硫氰酸甲酯的质量比为1:(0.05~1)。

2.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,所述异硫氰酸甲酯插层类水滑石作为催化剂降解抗生素在常温常压下进行,所述抗生素为环丙沙星。

3.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,步骤三中,所述异硫氰酸甲酯溶液的浓度为0.02~0.08mol/L。

4.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,步骤三中,超声分散的时间为5~30min;所述浸渍的条件为:浸渍温度为水浴温度68~75℃,浸渍时间为18~24h;所述干燥的条件为:干燥的温度为50~60℃,干燥的时间为16~24h。

5.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,步骤一中,所述铜盐、镁盐、铁盐的摩尔比为(2~4):(1~3):1。

6.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,步骤二中,搅拌混合的过程控制混合溶液的温度为60~70℃,控制溶液的pH值为5~12。

7.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,步骤二中,所述水浴陈化的条件为:水浴温度为68~72℃,陈化时间为12~24h,所述干燥的条件为:干燥的温度为78~82℃,干燥的时间为8~16h。

8.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,步骤二中,所述氢氧化物溶液为氢氧化钠溶液,且氢氧化钠溶液的浓度为1~3mol/L。

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