[发明专利]一种立式双温区-双通道化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种立式双温区-双通道化学气相沉积设备，其特征在于，包括：

沉积炉，所述沉积炉内包括介质容置区，所述介质容置区将所述沉积炉的内部腔室划分为上加热区和下加热区；所述介质容置区用于容置多孔介质，所述多孔介质用于沉积制备复合材料；所述沉积炉包括炉壳和内胆，所述内胆的内部腔室构成所述沉积炉的内部腔室；

第一加热体，用于对所述上加热区进行加热，以对所述多孔介质面向所述上加热区的一端进行加热；

第二加热体，用于对所述下加热区进行加热，以对所述多孔介质面向所述下加热区的一端进行加热；

其中，在沉积阶段时，所述第一加热体的功率不同于所述第二加热体的功率，以使所述多孔介质的上下两端的温度不同形成温差；

其中，所述第一加热体呈“几”字型环绕在所述上加热区，和/或，所述第二加热体呈“几”字型环绕在所述下加热区；

第一管路，与所述沉积炉的内部腔室连通，用于向所述沉积炉的内部腔室输入气态原材料，所述气态原材料用于在所述多孔介质发生沉积得到所述复合材料；

第二管路，与所述沉积炉的内部腔室连通，用于将所述沉积炉的内部腔室的气体输出到所述沉积炉的外部。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第二管路包括位于所述沉积炉上部的第一子管路和位于所述沉积炉下部的第二子管路。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一管路位于所述沉积炉的下部，所述第二子管路套设在所述第一管路外，且所述第二子管路与所述第一管路之间具有间隙。

4.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括：

混气预热腔体，位于所述沉积炉的下部；

所述混气预热腔体的一端与所述第一管路连通，另一端与所述沉积炉的内部腔室连通，用于对所述气态原材料进行预热。

5.根据权利要求4所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述混气预热腔体的内部间隔设置有多个分气挡板，每个所述分气挡板上开设有多个孔隙。

6.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，在所述炉壳和所述内胆之间填充有软毡。

7.根据权利要求6所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述内胆的上段为坩埚、中段为刚玉、下段为所述坩埚；

所述内胆的上盖和下盖均为所述刚玉；在所述上加热区、所述下加热区以及所述介质容置区中均设置有环绕所述内胆壁的硬毡。

8.根据权利要求7所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述上加热区的硬毡、所述下加热区的硬毡以及所述介质容置区中的硬毡所形成的内部腔室呈对称的漏斗形。