[发明专利]化合物、显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202210727167.2 申请日: 2022-06-24
公开(公告)号: CN115124489A 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 翟露 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司;武汉天马微电子有限公司上海分公司
主分类号: C07D285/14 分类号: C07D285/14;C07D235/08;C07D249/18;C07D271/12;C07D403/14;C07D405/14;C07D409/14;C07D413/14;C07D417/14;C07F7/10;H01L51/54;H01L51/50
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 吕倩茹
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 化合物 显示 面板 显示装置
【说明书】:

本申请公开了一种化合物、显示面板及显示装置,所述化合物具有式1所示的结构。本申请的化合物能提升器件的光取出效率和发光效率,特别是外量子效率,并且还能在实现多角度显示时有效降低器件色偏。

技术领域

本申请属于有机电致发光技术领域,具体涉及一种化合物、显示面板及显示装置。

背景技术

根据有机发光层发出光线的方向,有机电致发光(organic light emittingdiode,OLED)器件可以分为底发射器件和顶发射器件。在底发射器件中,光线朝向基板发出,反射电极形成在有机发光层上,透明(或半透明)电极形成在有机发光层下。在顶发射器件中,透明(或半透明)电极形成在有机发光层上,反射电极形成在有机发光层下,因此光线向基板相反方向发出,从而增加了光线透射面积而改善了亮度。经过几十年的发展,OLED器件已经取得了长足的进步,其内量子效率已经接近100%,但是,其外量子效率仅有20%左右。OLED器件发出的大部分光由于基板模式损失、表面等离子损失与波导效应等因素被限制在器件内部,导致了大量能量损失。

针对OLED器件光取出效率低的现状,在顶发射器件中需要在透明(或半透明)电极上蒸镀一层有机覆盖层(Capping Layer,CPL),以调节光学干涉距离、抑制外光反射、抑制表面等离子体能移动引起的消光,从而提高光的取出效率,提升器件的发光效率。目前,CPL材料存在诸多问题,例如折射率较低,光取出效果并不足够好,蓝色、绿色以及红色发光器件中的所有光无法同时获得高光提取效率等。

因此,本领域亟待开发更多种类、更高性能的CPL材料。

发明内容

本申请的目的在于提供一种化合物、显示面板及显示装置,其能提升器件的光取出效率和发光效率,特别是外量子效率,并且还能在实现多角度显示时有效降低器件色偏。

本申请第一方面提供一种化合物,具有式1所示的结构,

A1、A2各自独立地表示-(L)n-R,其中,L各自独立地表示经Ra取代或未取代的6~60元二价芳基、经Ra取代或未取代的5~60元二价杂芳基,R表示经Ra取代或未取代的6~60元一价芳基、经Ra取代或未取代的5~60元一价杂芳基,n表示0、1或2;

R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7各自独立地表示氢、氘、氚、卤原子或经Ra取代或未取代的如下基团:

C1~C20一价烷基、C1~C20一价烷氧基、C1~C20一价烷硫基、C2~C20一价烯基、C2~C20一价炔基、3~20元一价脂环基、3~20元一价脂杂环基、6~40元一价芳基、5~40元一价杂芳基;

X1、X2、X3各自独立地表示S、O、N(Y1)、C(Y2)2或Si(Y3)2,Y1、Y2、Y3各自独立地表示氢、氘、氚或经Ra取代或未取代的如下基团:

C1~C20一价烷基、C1~C20一价烷氧基、C1~C20一价烷硫基、C2~C20一价烯基、C2~C20一价炔基、3~20元一价脂环基、3~20元一价脂杂环基、6~40元一价芳基、5~40元一价杂芳基;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉天马微电子有限公司;武汉天马微电子有限公司上海分公司,未经武汉天马微电子有限公司;武汉天马微电子有限公司上海分公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210727167.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top