[发明专利]高Q值低介电常数LTCC粉、LTCC材料及制备方法、生瓷带及制备方法和应用有效
申请号: | 202210747946.9 | 申请日: | 2022-06-29 |
公开(公告)号: | CN115057695B | 公开(公告)日: | 2023-09-05 |
发明(设计)人: | 王刚;宣涛;杨利霞;黄志祥;吴先良 | 申请(专利权)人: | 安徽大学 |
主分类号: | C04B35/20 | 分类号: | C04B35/20;C04B35/626;C04B35/622;C04B35/64;C04B41/88 |
代理公司: | 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 | 代理人: | 缪璐欢 |
地址: | 230039 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介电常数 ltcc 材料 制备 方法 生瓷带 应用 | ||
1.一种高Q值低介电常数LTCC材料,其特征在于:采用高Q值低介电常数LTCC粉为原料制备而成;所述高Q值低介电常数LTCC粉由Mg2SiO4和CuF2混合而成,且所述CuF2的重量为所述Mg2SiO4重量的1-6%;所述高Q值低介电常数LTCC材料介电性能如下:相对介电常数εr在6-7之间,品质因数Q×f在50000-180000GHz之间,谐振频率温度系数τf在-65~-11ppm/℃之间;所述高Q值低介电常数LTCC材料的制备方法包括以下步骤:将高Q值低介电常数LTCC粉球磨后进行造粒,干压成型后在850-950℃下烧结2-6h得到所述高Q值低介电常数LTCC材料。
2.根据权利要求1所述的高Q值低介电常数LTCC材料,其特征在于:所述Mg2SiO4的制备工艺包括以下步骤:以MgO、SiO2为原料,并按照化学通式Mg2SiO4的化学计量比进行配料;将配好的原料进行球磨混合,在1300-1400℃温度下预烧2-6小时得到所述的Mg2SiO4。
3.根据权利要求2所述的高Q值低介电常数LTCC材料,其特征在于:所述二氧化硅SiO2的粒径D50为1.0μm-2.6μm;所述氧化镁MgO的粒径D50为1.0μm-3.2μm。
4.一种如权利要求1-3中任一项所述的高Q值低介电常数LTCC材料的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:将高Q值低介电常数LTCC粉球磨后进行造粒,干压成型后在850-950℃下烧结2-6h得到所述的高Q值低介电常数LTCC材料。
5.一种高Q值低介电常数LTCC生瓷带,其特征在于:采用高Q值低介电常数LTCC粉为原料制备而成;所述高Q值低介电常数LTCC粉由Mg2SiO4和CuF2混合而成,且所述CuF2的重量为所述Mg2SiO4重量的1-6%;
所述高Q值低介电常数LTCC生瓷带的制备方法包括以下步骤:
S1、将高Q值低介电常数LTCC粉球磨得到流延浆料;其中,在球磨过程中,所用溶剂为二甲苯和无水乙醇的混合物,所用分散剂为鲱鱼鱼油,所用粘结剂为聚乙烯醇缩丁醛;
S2、将S1中获得的流延浆料进行真空脱泡处理、流延成型得到LTCC生瓷带单层;
S3、将S2中获得的LTCC生瓷带单层通过丝网印刷银浆,然后将多个丝网印刷银浆后的LTCC生瓷带单层重叠放置后进行温水等静压形成LTCC巴块;
S4、将S3中所获得的LTCC巴块排胶后烧结,冷却至室温得到所述高Q值低介电常数LTCC生瓷带。
6.一种如权利要求5所述的高Q值低介电常数LTCC生瓷带的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1、将高Q值低介电常数LTCC粉球磨得到流延浆料;其中,在球磨过程中,所用溶剂为二甲苯和无水乙醇的混合物,所用分散剂为鲱鱼鱼油,所用粘结剂为聚乙烯醇缩丁醛;
S2、将S1中获得的流延浆料进行真空脱泡处理、流延成型得到LTCC生瓷带单层;
S3、将S2中获得的LTCC生瓷带单层通过丝网印刷银浆,然后将多个丝网印刷银浆后的LTCC生瓷带单层重叠放置后进行温水等静压形成LTCC巴块;
S4、将S3中所获得的LTCC巴块排胶后烧结,冷却至室温得到所述高Q值低介电常数LTCC生瓷带。
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