[发明专利]超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置及方法

权利要求书

1.一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，包括一体式的真空镀膜室，沿基材输送方向，真空镀膜室内设有依次连接的多个镀膜辊，每个镀膜辊的外侧分布有多个旋转磁控靶，每个镀膜辊处形成一个镀膜区域；基材经过各镀膜辊时，基材的两面在相邻的镀膜区域之间进行交替镀膜。

2.根据权利要求1所述一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述镀膜区域中，旋转磁控靶与基材表面之间还分布有若干电子吸收金属丝，各电子吸收金属丝分别外接有正电压。

3.根据权利要求2所述一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述电子吸收金属丝为直径小于1mm的钼丝或钨丝；正电压为小于100V的直流电压。

4.根据权利要求2所述一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述镀膜区域中，沿镀膜辊的圆周方向，镀膜辊一侧分布有多个旋转磁控靶，旋转磁控靶外侧或任意相邻的两个旋转磁控靶之间分别设有冷却隔板，相邻两个冷却隔板之间在基材表面形成一个溅射区域，每个溅射区域中均分布有电子吸收金属丝。

5.根据权利要求1所述一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述真空镀膜室内，任意相邻的两个镀膜辊之间还设有弧形舒展辊。

6.根据权利要求5所述一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述真空镀膜室内，任意相邻的两个镀膜辊之间还设有张力检测辊，沿基材的输送方向，张力检测辊设于弧形舒展辊之前。

7.根据权利要求1所述一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述镀膜辊有四个，沿基材的输送方向呈S形分布，每个镀膜辊对应的镀膜区域长度占镀膜辊周长的1/3至1/2。

8.根据权利要求1所述一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，沿基材的输送方向，真空镀膜室的两侧还分别设有放卷室和收卷室，放卷室内设有沿基材输送方向依次设置的放卷辊、放卷跟踪摆动辊、放卷张力辊、加热器和离子源，收卷室内设有沿基材输送方向依次设置的收卷张力辊、收卷跟踪摆动辊和收卷辊；放卷室与真空镀膜室的连接处设有第一真空锁，收卷室与真空镀膜室的连接处设有第二真空锁。

9.根据权利要求8所述一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述放卷室、真空镀膜室和收卷室三者形成一体式的腔体结构，放卷室与真空镀膜室之间、真空镀膜室与收卷室之间分别通过隔板进行分隔，形成三个相互独立的空间，隔板上设有供基材通过用的基材通道，并在基材通道一侧相应设置第一真空锁或第二真空锁；放卷室的外侧设有第一移动门，收卷室的外侧设有第二移动门。

10.一种超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜方法，其特征在于，通过在同一真空镀膜室内设置交替分布的多个镀膜区域，基材沿着各镀膜区域中的镀膜辊进行卷绕输送，在相邻的两个镀膜区域之间，基材的两面进行交替镀膜；在同一镀膜区域的镀膜过程中，基材的一面通过镀膜辊外侧的旋转磁控靶进行磁控溅射镀膜，基材的另一面紧贴镀膜辊表面进行冷却；基材两面在相邻的镀膜区域之间进行交替镀膜和冷却，从而在镀膜过程中实时降低基材温度和已镀铜膜层的温度。