[发明专利]一种多点位共靶点激光排爆系统在审

专利信息
申请号: 202210753603.3 申请日: 2022-06-29
公开(公告)号: CN115031596A 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 樊钥宽;满福全 申请(专利权)人: 樊钥宽;满福全
主分类号: F42D5/04 分类号: F42D5/04;F41H13/00
代理公司: 北京力量专利代理事务所(特殊普通合伙) 11504 代理人: 郭大为
地址: 110170 辽宁省沈阳*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 多点 位共靶点 激光 系统
【权利要求书】:

1.一种多点位共靶点激光排爆系统,其特征在于,包括激光器系统、指示光瞄准系统、光电转台、转台控制系统;

其中,所述激光器系统包括所述激光器系统包括激光器、温控系统、可插拔光纤传输装置、激光控制系统;

所述激光器用于产生激光束;

所述温控系统用于对激光器的内部温度进行调控;

所述可插拔光纤传输装置用于传输激光器所发射的激光束;

所述激光控制系统用于控制激光器,

所述指示光瞄准系统包括变焦激光发射头、绿光指示光、高清摄像机、视频采集器,变焦激光发射头;

所述变焦激光发射头用于传递激光器所发射的激光,并改变靶点处的激光光斑的聚焦;

所述绿光指示光用于指引激光束精准的作用于未爆弹药的特定靶点;

所述高清摄像机用于捕捉绿光指示光在靶目标上的入射位置;

所述视频采集器用于获取激光作用于未爆弹药的整体过程,并获取激光束作用于未爆弹药后的销毁信息;

所述光电转台包括夹具、水平驱动装置、俯仰驱动装置,

所述夹具用于固定指示光瞄准系统;

所述水平驱动装置用于改变水平方向的位移;

所述俯仰驱动装置用于改变俯仰方向的位移,

所述转台控制系统包括主控系统、反馈控制系统,所述转台控制系统用于调节激光发射头所处的方位、俯仰。

2.根据权利要求1所述的一种多点位共靶点激光排爆系统,其特征在于,所述激光控制系统包括聚焦系统、工作指令实施系统;

所述聚焦系统用于对激光束的光斑大小进行调制;

所述工作指令实施系统控制激光输出的功率大小,以及实施发射及停止的指令。

3.根据权利要求1所述的一种多点位共靶点激光排爆系统,其特征在于,所述电源为所述激光器系统、所述激光控制系统、所述高清摄像机、所述主控系统、所述反馈控制系统供电。

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