[发明专利]相位阵列阶梯反射镜器件,单脉冲X射线脉宽的测量装置和测量方法在审
申请号: | 202210758567.X | 申请日: | 2022-06-30 |
公开(公告)号: | CN115047508A | 公开(公告)日: | 2022-09-13 |
发明(设计)人: | 杨勇;杨俊义;宋瑛林 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | G01T1/00 | 分类号: | G01T1/00;G01J11/00;G02B5/00 |
代理公司: | 苏州满天星知识产权代理事务所(普通合伙) 32573 | 代理人: | 赵静 |
地址: | 215006*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 相位 阵列 阶梯 反射 器件 脉冲 射线 测量 装置 测量方法 | ||
1.一种相位阵列阶梯反射镜器件,包括基体和m行乘n列个反射镜,其特征在于,反射镜的表面具有相位物体,反射镜的反射面与基体的底面平行,将位于第一行第一列的反射镜记为L1C1,第m行第n列的反射镜记为LmCn,相位阵列阶梯反射镜器件中任一反射镜记为LiCj,将基体的底面到任一反射镜的高度记为H(LiCj),则有H(LiCj)>H(Li+1Cj),H(LiCj)H(LiCj+1),H(LiCn)H(Li+1C1);其中m,n,i,j为整数,且1≤i≤m,1≤j≤n。
2.根据权利要求1所述的相位阵列阶梯反射镜器件,其特征在于,反射镜中心区域涂有相位物体。
3.根据权利要求1所述的相位阵列阶梯反射镜器件,其特征在于,同一行且相邻列的反射镜高度差记为h,则有H(LiCj)-H(Li+1Cj)=nh,H(LiCj)-H(LiCj+1)=h,H(LiCn)-H(Li+1C1)=h,h=延迟时间分辨率×光速。
4.一种单脉冲X射线脉宽的测量装置,其特征在于,包括同步控制系统、探测光光源、探测光束调制系统、成像系统、标准样品、数据记录装置以及X射线源;所述标准样品位于所述成像装置与所述数据记录装置之间,所述同步控制系统控制探测光源发射探测光并控制X射线源发射X射线,所述X射线射向标准样品,所述测量装置还包括如权利要求1-3任一所述的相位阵列阶梯反射镜器件,所述相位阵列阶梯反射镜器件位于探测光束调制系统与成像系统之间并位于成像系统的物平面上。
5.根据权利要求4所述的单脉冲X射线脉宽的测量装置,其特征在于,探测光束调制系统包括第一凸透镜,第二凸透镜和孔径光阑。
6.根据权利要求4所述的单脉冲X射线脉宽的测量装置,其特征在于,测量装置还包括一分束镜,所述分束镜设置在所述探测光束调制系统与所述相位阵列阶梯反射镜器件之间。
7.根据权利要求4所述的单脉冲X射线脉宽的测量装置,其特征在于,所述数据记录装置放置在成像系统的像平面上。
8.根据权利要求4所述的单脉冲X射线脉宽的测量装置,其特征在于,所述成像系统为透镜成像系统,包括一成像透镜,所述标准样品位于所述成像透镜的前焦平面上。
9.根据权利要求4所述的单脉冲X射线脉宽的测量装置,其特征在于,所述成像系统为4f成像系统,包括两焦距相同的第三凸透镜和第四凸透镜,所述标准样品位于所述第四凸透镜的前焦平面。
10.根据权利要求4所述的单脉冲X射线脉宽的测量装置,其特征在于,还包括一中性密度衰减片,所述中性密度衰减片设置与相位阵列反射器件与成像系统之间。
11.一种单脉冲X射线脉宽的测量方法,采用如权利要求4-10任一所述的测量装置,其特征在于,所述测量方法包括:
步骤a),不放置标准样品,遮蔽泵浦光,发射探测光,数据记录装置记录探测光背景光斑信息,
步骤b),放置标准样品,遮蔽泵浦光,发射探测光,数据记录装置记录样品线性吸收探测光光斑信息,
步骤c),放置标准样品,发射探测光和泵浦光,数据记录装置记录样品非线性折射探测光光斑信息,
步骤d),对步骤a)、步骤b)、步骤c)获取的光斑信息进行处理,得到X射线脉宽。
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