[发明专利]阵列基板及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板至少包括：

依次设置于栅极层上的栅绝缘层和有源层，所述栅绝缘层具有与所述有源层重叠的中央区和围绕所述中央区的外围区，所述有源层具有背离所述栅绝缘层的第一表面，所述栅绝缘层具有位于所述中央区的与所述有源层接触的第三表面；以及，

挡光层，设置于所述外围区，所述挡光层具有背离所述栅绝缘层的第二表面，其中，所述第二表面相对于所述第三表面的高度大于所述第一表面相对于所述第三表面的高度。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述栅绝缘层具有位于所述外围区的与所述挡光层接触的第四表面，所述第三表面与所述第四表面在同一个平面内延展，所述有源层具有第一厚度，所述挡光层具有第二厚度，其中，所述第二厚度大于所述第一厚度。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括源漏极层，所述源漏极层设置于所述有源层上，且具有第三厚度，其中，所述第三厚度等于所述第二厚度。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光层的材料与所述源漏极层的材料相同，且所述挡光层与所述源漏极层被介质材料隔开。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光层的电位被配置为悬浮。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光层的材料与所述栅绝缘层的材料相同。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光层与所述有源层相接触。

8.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法至少包括：

在栅极层上依次形成栅绝缘层和有源层，其中，所述栅绝缘层具有与所述有源层重叠的中央区和围绕所述中央区的外围区，所述有源层具有背离所述栅绝缘层的第一表面，所述栅绝缘层具有位于所述中央区的与所述有源层接触的第三表面；以及，

在所述外围区形成挡光层，其中，所述挡光层具有背离所述栅绝缘层的第二表面，所述第二表面相对于所述第三表面的高度大于所述第一表面相对于所述第三表面的高度。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述在所述外围区形成挡光层的步骤，具体包括：

使用同一光罩形成位于所述外围区的挡光层以及位于所述有源层上的源漏极层。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置至少包括如权利要求1至7任一项所述的阵列基板。