[发明专利]前驱体（101）和（001）晶面的XRD衍射强度比值的调控方法在审
| 申请号： | 202210797169.9 | 申请日： | 2022-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN115072804A | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 李玉云;张海艳;胡志兵;胡海诗;刘庭杰;付家帅;曾永详;周春仙;刘玮;乔凡 | 申请（专利权）人： | 金驰能源材料有限公司;湖南长远锂科新能源有限公司;湖南长远锂科股份有限公司 |
| 主分类号： | C01G53/00 | 分类号： | C01G53/00 |
| 代理公司： | 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 | 代理人： | 李琼芳 |
| 地址： | 410203 湖南省长沙*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 前驱 101 001 xrd 衍射 强度 比值 调控 方法 | ||
1.一种正极材料的前驱体的（101）晶面和（001）晶面的XRD衍射强度比值的调控方法，其特征在于，共沉淀法合成前驱体的过程包含两个阶段：成核阶段和生长阶段；
，其中，为反应体系的上清液的碱度值，单位为g/L，通过酸碱滴定确定；为组成前驱体的主金属的盐溶液的流量，为沉淀剂溶液的流量，为络合剂溶液的流量，单位均为ml/min；
成核阶段在惰性气体或氮气气体保护下进行，反应体系的pH值为10-12，控制60A80；
成核阶段结束后，进入生长阶段；生长阶段的反应气氛为空气，反应釜内的蒸汽中的氧含量为0.5%-1.5%；控制反应体系的pH值为10-13，60＜A＜160；在生长阶段，A的数值越大，制备得到的前驱体的I(101)/I(001)数值越大。
2.如权利要求1所述的调控方法，其特征在于，当生长阶段130＜A＜160时，制备得到的前驱体的I(101)/I(001)＞1；
当生长阶段60＜A＜130时，制备得到的前驱体的I(101)/I(001)＜1。
3.如权利要求1所述的调控方法，其特征在于，成核阶段的时间为10-60min。
4.如权利要求1-3任一项所述的调控方法，其特征在于，制备得到I(101)/I(001)＞1的前驱体，控制生长阶段130＜A＜160的时间不超过4h。
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