[发明专利]振动元件的制造方法在审

专利信息
申请号: 202210798312.6 申请日: 2022-07-08
公开(公告)号: CN115622521A 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 坂田日和;西泽龙太;白石茂;山口启一;小林琢郎 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 方冬梅;邓毅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 振动 元件 制造 方法
【说明书】:

本发明提供一种振动元件的制造方法,能够抑制无用振动的产生、振动元件的破损。振动元件的制造方法包括:第一干蚀刻工序,从第一面侧对具有第一面以及第二面的石英基板进行干蚀刻,形成第一槽和第一振动臂及第二振动臂的外形;第二干蚀刻工序,从第二面侧对石英基板进行干蚀刻,形成第二槽和第一振动臂及第二振动臂的外形;以及之后对第一振动臂以及第二振动臂的侧面进行湿蚀刻的湿蚀刻工序。

技术领域

本发明涉及振动元件的制造方法。

背景技术

专利文献1中记载了如下的振动元件的制造方法:通过干蚀刻形成具有形成有槽的一对振动臂的振动元件。在该制造方法中,在对由压电材料构成的基板进行干蚀刻时,通过相对于一对振动臂之间的宽度使槽的宽度变窄,从而使用微负载效应而使槽的蚀刻深度相对于一对振动臂之间的蚀刻深度变浅,从而一并形成振动元件的槽和外形形状。

专利文献1:日本特开2007-013382号公报

但是,在专利文献1中的振动元件的制造方法中,由于从基板的正反两面进行干蚀刻,因此,由于形成在基板的正面上的抗蚀剂膜与形成在基板的背面上的抗蚀剂膜之间的位置偏离,有可能在振动臂的侧面形成台阶。当在振动臂的侧面形成有台阶时,存在产生无用振动、或在冲击时产生以台阶为起点的裂纹或缺损等破损的课题。

发明内容

本发明的振动元件的制造方法中,所述振动元件具有沿着第一方向延伸且沿着与所述第一方向交叉的第二方向排列的第一振动臂和第二振动臂,所述第一振动臂和所述第二振动臂分别具有:在与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向上排列配置、处于正反关系的第一面和第二面;在所述第一面开口的有底的第一槽;在所述第二面开口的有底的第二槽;以及连接所述第一面和所述第二面的侧面,所述振动元件的制造方法包括如下工序:准备具有所述第一面和所述第二面的石英基板的工序;第一干蚀刻工序,从所述第一面侧对所述石英基板进行干蚀刻,形成所述第一槽和所述第一振动臂及所述第二振动臂的外形;第二干蚀刻工序,从所述第二面侧对所述石英基板进行干蚀刻,形成所述第二槽和所述第一振动臂及所述第二振动臂的外形;以及之后对所述第一振动臂以及所述第二振动臂的所述侧面进行湿蚀刻的湿蚀刻工序。

附图说明

图1是表示实施方式1的振动元件的俯视图。

图2是图1中的A1-A1线剖视图。

图3是表示实施方式1的振动元件的制造工序的图。

图4是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图5是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图6是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图7是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图8是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图9是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图10是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图11是相当于图10中的E1部的位置的剖视图。

图12是相当于图10中的E2部的位置的剖视图。

图13是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图14是表示使蚀刻时间不同的情况下的W/A与Wa/Aa的关系的曲线图。

图15是表示使反应气体不同的情况下的W/A与Wa/Aa的关系的曲线图。

图16是表示Wa/Aa与CI值的关系的曲线图。

图17是表示实施方式2的振动元件的制造工序的图。

图18是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

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