[发明专利]一种含氟离子的氧化硅蚀刻液及其应用在审
| 申请号： | 202210813717.2 | 申请日： | 2022-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN115368898A | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 孙秀岩;王倩 | 申请（专利权）人： | 张家港安储科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;C09K13/08;C30B29/18;C30B33/10;H01L21/311 |
| 代理公司： | 苏州启华专利代理事务所(普通合伙) 32357 | 代理人： | 徐伟华 |
| 地址： | 215600 江苏省苏州市张家港*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 离子 氧化 蚀刻 及其 应用 | ||
1.一种含氟离子的氧化硅蚀刻液，其特征在于，按照总质量百分比100%计，包括以下原料组分：含氟离子的化合物0.05-10%、有机酸0.1-20%、糖醇0.1-20%，剩余为超纯水。
2.根据权利要求1所述的含氟离子的氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述含氟离子的化合物选自氟化氢、氟化铵、四烷基季铵氟化物中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的含氟离子的氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述含氟离子的化合物选自氟化氢、氟化铵中的一种或两者的组合，所述含氟离子的化合物的投加量在0.05%-5%之间。
4.根据权利要求1所述的含氟离子的氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述有机酸选自柠檬酸和草酸中的一种或两者的混合。
5.根据权利要求1或4所述的含氟离子的氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述有机酸的添加量在0.5-5%之间。
6.根据权利要求1所述的含氟离子的氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述糖醇选自麦芽糖醇、甘露醇、木糖醇及山梨醇中的至少一种，所述糖醇的投加量在0.5-5%之间。
7.根据权利要求1所述的含氟离子的氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液的pH＜5。
8.根据权利要求1所述的含氟离子的氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述氧化硅蚀刻液的原料中还包括用于调节蚀刻液pH值的酸性化合物，所述酸性化合物选自硝酸、硫酸、磷酸或有机磺酸中的一种或多种，所述有机磺酸选自甲磺酸、苯磺酸、对甲苯磺酸中的一种或多种。
9.根据权利要求1所述的含氟离子的氧化硅蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液的原料中还包括用于维持蚀刻液pH值的酸性缓冲溶液，所述酸性缓冲溶液选自乙酸-乙酸铵缓冲溶液、柠檬酸-柠檬酸铵缓冲溶液中的至少一种。
10.一种如权利要求1所述的含氟离子的氧化硅蚀刻液在晶圆加工设备上的应用。
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