[发明专利]图像感测装置在审

专利信息
申请号: 202210823928.4 申请日: 2022-07-14
公开(公告)号: CN115714926A 公开(公告)日: 2023-02-24
发明(设计)人: 张在亨;金钟采;李在原 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H04N25/76 分类号: H04N25/76;H04N25/77;H04N25/75
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 杨雪玲;孙东喜
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 装置
【权利要求书】:

1.一种图像感测装置,该图像感测装置包括:

像素阵列;

其中,所述像素阵列包括:

感测区域,该感测区域包括多个单位像素,每个单位像素检测入射光以产生指示所检测到的入射光的光电荷;

偏置场区域,该偏置场区域掺杂有杂质并且沿所述感测区域的边缘设置;以及

接触部分,该接触部分连接到所述偏置场区域,以向所述偏置场区域施加偏置电压以使所述感测区域中的光电荷移动。

2.根据权利要求1所述的图像感测装置,其中,所述像素阵列还包括:

钝化区域,该钝化区域形成为与所述感测区域交叠,

其中,所述像素阵列形成在半导体层中,其中,所述偏置场区域位于所述半导体层内的第一深度处,并且所述钝化区域位于所述半导体层内的第二深度处,并且其中所述第一深度大于所述第二深度。

3.根据权利要求2所述的图像感测装置,其中,

所述偏置场区域形成为围绕所述钝化区域;并且

所述偏置场区域形成为与所述接触部分接触。

4.根据权利要求2所述的图像感测装置,其中,

所述偏置场区域沿所述钝化区域的边缘设置;并且

所述钝化区域形成为与所述偏置场区域交叠。

5.根据权利要求1所述的图像感测装置,其中,每个所述单位像素包括:

控制区域,该控制区域在设置有所述单位像素的半导体层中产生电流;以及

检测区域,该检测区域捕获通过所述电流移动的所述光电荷。

6.根据权利要求5所述的图像感测装置,其中,

解调控制信号被施加到所述控制区域,

其中,所述解调控制信号是通过使第一电压和第二电压以预定时间间隔重复而形成的。

7.根据权利要求6所述的图像感测装置,其中,

所述解调控制信号为各自之间具有180度的相位差的两个不同解调控制信号中的任意一个。

8.根据权利要求6所述的图像感测装置,其中,

所述解调控制信号为各自之间具有90度的相位差的四个不同解调控制信号中的任意一个。

9.根据权利要求6所述的图像感测装置,其中,

所述光电荷在从所述偏置场区域到所述控制区域的方向上移动。

10.根据权利要求6所述的图像感测装置,其中,

所述偏置电压低于所述第一电压和所述第二电压中的每一个。

11.一种图像感测装置,该图像感测装置包括:

感测区域,该感测区域包括多个单位像素,每个单位像素包括用于接收第一电压或第二电压的控制区域和用于捕获通过所述第一电压或所述第二电压移动的电子的检测区域;

偏置场区域,该偏置场区域沿所述感测区域的边缘设置;

接触部分,该接触部分连接到所述偏置场区域以向所述偏置场区域施加偏置电压;以及

偏置电压控制器,该偏置电压控制器向所述接触部分传送所述偏置电压,

其中,所述偏置电压低于所述第一电压和所述第二电压中的每一个。

12.根据权利要求11所述的图像感测装置,该图像感测装置还包括:

钝化区域,该钝化区域形成为与所述感测区域交叠,

其中,所述偏置场区域位于半导体层内的第一深度处并且所述钝化区域位于所述半导体层内的第二深度处,并且其中所述第一深度大于所述第二深度。

13.根据权利要求12所述的图像感测装置,其中,

所述偏置场区域形成为围绕所述钝化区域;并且

所述偏置场区域形成为与所述接触部分接触。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士有限公司,未经爱思开海力士有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210823928.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top