[发明专利]一种真空氦漏孔校准方法在审

专利信息
申请号: 202210831522.0 申请日: 2022-07-15
公开(公告)号: CN115200793A 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 刘贝贝;张忠立;刘燚;周宇仁;金愿 申请(专利权)人: 上海市计量测试技术研究院
主分类号: G01M3/20 分类号: G01M3/20
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 王一琦
地址: 200040 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 漏孔 校准 方法
【说明书】:

发明涉及一种真空氦漏孔校准方法,S1、先将(10‑10~10‑5)Pa﹒m3/s范围内不同数量级漏率的6N(N≥4)支标准漏孔接入氦质谱检漏仪,每个数量级上分布N支标准漏孔,且标准漏孔漏率值分别在各数量级上均匀分布;获取各标准漏孔对应的氦质谱检漏仪的示值;S2、以氦质谱检漏仪示值x为横坐标,标准漏孔漏率值y为纵坐标,绘制出漏率拟合曲线,得到拟合公式y=axb,完成氦质谱检漏仪在(10‑10~10‑5)Pa﹒m3/s量程范围内的校准;S3、然后将被校真空氦漏孔接入氦质谱检漏仪,将氦质谱检漏仪示值带入拟合公式得到被校漏孔漏率实际值,完成真空氦漏孔的校准。

技术领域

本发明涉及一种真空氦漏孔校准方法,属于计量校准技术领域。

背景技术

真空氦漏孔校准方法分为流量计法,定量气体法和相对比较法,其中相对比较法操作最为方便。相对比较法为选择与被校漏孔漏率值在同一数量级的标准漏孔,将两只漏孔同时安装于检漏仪上,利用检漏仪将标准漏孔的漏率值与被校漏孔的漏率值进行比较,从而得出被校真空氦漏孔的漏率值。若标准漏孔漏率的检漏仪示值为Q标准漏孔示值,被校漏孔漏率的检漏仪示值为Q被校漏孔示值,标准漏孔漏率值为Q标准漏孔漏率值,则被校真空氦漏孔的实际漏率值为:

采用一只标准漏孔对被检测漏孔进行漏率值的校准,则被校漏率值的准确性与检漏仪的线性直接相关,而真实状态下被校漏孔的漏率值与检漏仪的示值并非直接的线性相关,而是存在一个曲线,所以该方法仅在被校漏孔和标准漏孔漏率值接近时最可靠,因此每次对不同量级漏率的漏孔进行校准时都要选择合适的标准漏孔,操作起来较麻烦,且测量误差较大。

发明内容

本发明的目的是提供一种真空氦漏孔校准方法,用于解决现有技术中采用相对比较法进行漏孔漏率校准时,每次需要对不同量级漏率的漏孔进行校准时都要选择合适的标准漏孔,操作起来较麻烦,且测量误差较大的技术问题。

本发明采取以下技术方案:

一种真空氦漏孔校准方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、先将(10-10~10-5)Pa﹒m3/s范围内不同数量级漏率的6N(N≥4)支标准漏孔接入氦质谱检漏仪,每个数量级上分布N支标准漏孔,且标准漏孔漏率值分别在各数量级上均匀分布;获取各标准漏孔对应的氦质谱检漏仪的示值;

S2、以氦质谱检漏仪示值x为横坐标,标准漏孔漏率值y为纵坐标,绘制出漏率拟合曲线,得到拟合公式y=axb,完成氦质谱检漏仪在(10-10~10-5)Pa﹒m3/s量程范围内的校准;其中a、b为常数;

S3、然后将被校真空氦漏孔接入氦质谱检漏仪,将氦质谱检漏仪示值带入所述拟合公式得到被校漏孔漏率实际值,完成真空氦漏孔的校准。

优选的,步骤S1之前的准备工作:实验室温度为(23±5)℃,真空氦漏孔与氦质谱检漏仪处在同一环境下不低于24小时,校准过程中温度变化不超过±1℃;氦质谱检漏仪启动后根据说明书先预热设定时间,氦质谱检漏仪在使用前先通过内置漏孔或者外置漏孔对仪器进行自校。

优选的,步骤S1中:

A、N取值为4,(10-10~10-5)Pa﹒m3/s每个数量级各准备4支标准漏孔,共24支漏孔,漏孔漏率值在各数量级满量程0.1、0.3、0.6、0.9倍附近的点上;按照漏率值由小到大的顺序,先将10-10Pa﹒m3/s数量级的四支漏孔安装在氦质谱检漏仪四个对应位置(6、7、8、9)上;

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