[发明专利]一种超表面OLED显示结构及其制备方法

说明书

本发明公开一种超表面OLED显示结构及其制备方法，其包括从下至上依次叠加的基材、meta‑FP镜面层、发光层和FP镜面层，meta‑FP镜面层具有多个meta‑FP镜面，每个meta‑FP镜面上刻蚀有实现特定波长的纳米结构；发光层由红绿蓝三种子像素组成一个像素，发光层的子像素的显示尺寸、结构形貌与meta‑FP镜面显示范围相同；meta‑FP镜面上的纳米结构激发发光层发射出相应波长的光；FP镜面层设在发光层的上表面，FP镜面层与发光层共同组成法布里－珀罗光学微腔。本发明通过不同meta‑FP的纳米结构，实现光学微腔反射相的不同性能，从而改变光学微腔的有效腔长，改变光量子在光学微腔内的谐振频率，进而获得特定的光波长及最低的光子损耗。

技术领域

本发明涉及有机发光二极管（OLED）显示技术领域，尤其涉及一种超表面OLED显示结构及其制备方法。

背景技术

有机发光二极管（OLED）因其优异的显示特性逐步得到市场的认可。目前业内常见的OLED像素结构制作方法是真空蒸镀。这种方法对材料的利用率低，所用到的金属掩膜版（FMM）也会因沉积物的遮蔽效应导致像素无法做到很小，同时也会因为FMM不可避免地下垂造成显示区域无法做大，无法满足大家对高像素大显示的需求。为了解决上述FMM的显示问题，如图1所示，现有技术提出了一种采用白色OLED搭配像素滤光膜的方案，采用通过设置滤光层包括在显示面板厚度方向上与子像素一一对应的法布里珀罗共振腔结构，各法布里珀罗共振腔结构的腔体长度不完全相同，使得自像素层发射的光经不同腔长的法布里珀罗共振腔结构后出射的光的颜色不同，从而通过基于光学谐振原理的法布里珀罗共振腔实现了显示面板的多彩显示。但是这种方法并非理想解决方案，原因在于其使用了像素滤光膜既造成较高的光学损耗（70%）,无法得到高亮度OLED显示设备，同时也因其高能耗而加速材料的老化。

发明内容

本发明的目的在于提供一种超表面OLED显示结构及其制备方法。

本发明采用的技术方案是：

一种超表面OLED显示结构，其包括从下至上依次叠加的基材、meta-FP镜面层、发光层和FP镜面层， meta-FP镜面层具有多个meta-FP镜面，每个meta-FP镜面上刻蚀有实现特定波长的纳米结构；发光层，即OLED像素点阵，发光层由红（R）绿（G）蓝（B）三种子像素组成一个像素，发光层的子像素显示尺寸与meta-FP镜面显示范围相同，子像素是结构形貌与对应的meta-FP镜面上的纳米结构相同；meta-FP镜面上的纳米结构激发发光层发射出相应波长的光实现多彩显示；FP镜面层设在发光层的上表面，FP镜面层与发光层共同组成法布里－珀罗光学微腔。

进一步地，发光层的底面设有金属阳极，发光层的上表面设有金属阴极。

进一步地，FP镜面层的上表面设有封装层。

进一步地，纳米结构的同一行采用相同截面形状的柱状体，不同行采用不同截面形状的柱状体。

进一步地，同一个纳米结构中所有行列中柱状体的截面形状相同。

进一步地，纳米结构为圆柱形阵列、长方体阵列。纳米结构包括但不限于纳米柱、纳米方块的微观结构，设计尺寸：直径（φ）10nm~10um，高度（H）10nm~10um。

进一步地，发光层的子像素的纳米结构为3*1、3*2或3*3阵列结构，其中3*1阵列表示单个RGB子像素形成一个OLED像素，3*2阵列表示两个RGB子像素形成一个OLED像素，3*3阵列表示三个RGB子像素形成一个OLED像素。

进一步地，同一种RGB子像素具有相同的结构形貌，不同的RGB子像素的结构形貌相同或者不同。

进一步地，OLED像素点阵子像素形貌包含但不限于柱状、方块状。

进一步地，为了降低蓝光亮度，一方面可将B子像素比例降低，一方面可把B子像素的柱高尺寸降低。