[发明专利]投影光学系统、投影光学模组及电子设备

权利要求书

1.一种投影光学系统，用于设置于电子设备的盖体的其中一侧，其特征在于，所述投影光学系统包括：

透镜组，用于接收光源发射的光线，所述透镜组包括对光线具有曲折力的至少一个透镜；

透光图案元件，与所述透镜沿所述透镜组的光轴方向设置，且用于使经过所述透光图案元件的光线形成预设图案；及

光反射元件，与所述透镜沿所述光轴方向设置，所述光反射元件具有反光面，所述反光面与所述光轴呈夹角设置，且所述反光面用于反射沿所述光轴方向经过所述透镜组和所述透光图案元件的光线，以使光线沿与所述光轴呈夹角的第一预设方向射出所述盖体，从而能够投影于所述盖体远离所述透镜组一侧的投影载体上以呈现所述预设图案。

2.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，所述透镜组包括多个所述透镜，其中一部分所述透镜形成投影透镜组；

所述投影透镜组沿所述光轴方向设于所述透光图案元件与所述光反射元件之间，所述投影透镜组用于接收所述透光图案元件出射的光线，并使光线向所述光轴方向偏折以投射至所述反光面。

3.根据权利要求2所述的投影光学系统，其特征在于，另一部分所述透镜形成准直透镜组；

所述准直透镜组沿所述光轴方向设于所述光源与所述透光图案元件之间，用于接收所述光源出射的部分或全部光线，并对所述光源出射的光线进行准直处理后传输至所述透光图案元件。

4.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，所述透镜为切边透镜，所述切边透镜包括平行于所述光轴的第一切面和第二切面，所述第一切面和所述第二切面沿所述第一预设方向设于所述光轴相对的两侧。

5.根据权利要求4所述的投影光学系统，其特征在于，所述投影光学系统还包括：

偏光件，沿所述光轴方向设于所述光源和所述透镜组之间，所述偏光件能够调整所述光源发射光线的传播方向，以使光线在所述第一预设方向靠近所述光轴所在的第一平面，所述第一平面平行于所述第一切面。

6.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，所述透镜组具有集光区域，穿过所述透镜组的光线汇聚于所述集光区域，且穿过所述集光区域后再次扩散，所述反光面设于所述透镜组的集光区域处。

7.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

所述透光图案元件位于所述透镜其中一侧，且与所述透镜间隔设置；或，

所述透光图案元件贴设于其中一个所述透镜。

8.一种投影光学模组，其特征在于，包括如上述权利要求1-7中任一项所述的投影光学系统。

9.根据权利要求8所述的投影光学模组，其特征在于，所述投影光学模组包括：

镜筒，具有通光孔以及与所述通光孔连通的第一开口，所述投影光学系统设于所述通光孔内，且所述第一开口沿所述第一预设方向设于所述投影光学系统一侧，所述投影光学系统于所述第一开口处暴露；

光源，所述光源设于所述透镜组和所述透光图案元件两者远离所述光反射元件的一侧。

10.一种电子设备，其特征在于，包括：

盖体；及

如上述权利要求8-9中任一项所述的投影光学模组，所述投影光学模组设于所述盖体一侧。