[发明专利]一种改善晶界扩散制备高性能钕铁硼永磁材料的方法在审
| 申请号： | 202210860847.1 | 申请日： | 2022-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN115116734A | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 汪维杰;朱青;张洪伟;葛行 | 申请（专利权）人： | 宁波松科磁材有限公司 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;H01F1/057;C23C10/18 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 祝萍萍 |
| 地址： | 315500 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改善 扩散 制备 性能 钕铁硼 永磁 材料 方法 | ||
1.一种改善晶界扩散制备高性能钕铁硼永磁材料的方法，其特征在于，
包括如下步骤：钕铁硼磁体经过前处理后，在钕铁硼磁体上镀上重稀土层，然后镀上高熔点金属层，得到含复合镀层的钕铁硼磁体；将所述含复合镀层的钕铁硼磁体进行热处理，然后去除高熔点金属层，得到钕铁硼永磁材料；所述高熔点金属层包括钨层、锆层、钼层、钽层、铌层中的至少一种。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述重稀土层的厚度为5-25μm。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述高熔点金属层的厚度为5-20μm。
4.如权利要求1～3任一项所述的方法，其特征在于，所述重稀土层的镀层方式包括磁控溅射、蒸镀、喷涂、化学溶液镀层中的至少一种；所述高熔点金属层的镀层方式包括磁控溅射、蒸镀、喷涂、化学溶液镀层中的至少一种。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述磁控溅射的条件为电流15～40A，溅射时间40～100min。
6.如权利要求1～3任一项所述的方法，其特征在于，所述重稀土层包括镝层、铽层中的至少一种。
7.如权利要求1～3任一项所述的方法，其特征在于，所述热处理的温度为500～900℃，时间为5～20h。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述热处理的温度为850℃，时间为10h。
9.如权利要求1～3任一项所述的方法，其特征在于，所述钕铁硼磁体的厚度为5～15mm。
10.权利要求1～9任一项所述的方法制得的钕铁硼永磁材料。
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