[发明专利]一种光阻收集杯清洗装置

说明书

本发明涉及半导体领域，公开一种光阻收集杯清洗装置。光阻收集杯清洗装置包括：涂胶腔室、第一刮除机构、排废管，第二刮除机构、第一驱动机构和第二驱动机构；第一刮除机构位于涂胶腔室内；第一驱动机构与第一刮除机构传动连接，用于驱动第一刮除机构相对涂胶腔室的内侧壁运动，以刮除内侧壁上的残留物；排废管设置于涂胶腔室的底部，第二刮除机构位于排废管内；第二驱动机构与第二刮除机构传动连接，用于驱动第二刮除机构相对排废管的管壁运动，以刮除管壁上的残留物。大大缩短了清洗时间且清洗的较为彻底，在一定程度上降低了清洗频率。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种光阻收集杯清洗装置。

背景技术

在半导体晶圆加工过程中需要用涂胶机对晶圆进行光阻的涂覆，以便晶圆完成光刻工艺。在光阻旋涂时，晶圆的高速旋转导致光阻被甩到CUP(光阻收集杯)的边缘，并且CUP边缘的光阻残留，无法用制程过程中洗边功能洗去，只能在CUP清洗时利用CUP内喷涂的大量溶剂洗去。但CUP清洗通常清洗时间较久，且无法清洗干净，增加机台预防性维护(PM)频率，不仅会降低机台使用率增加成本，而且会增加缺陷概率。

发明内容

根据一些实施例，本申请提供一种光阻收集杯清洗装置，包括：涂胶腔室、第一刮除机构、排废管，第二刮除机构、第一驱动机构和第二驱动机构；

所述第一刮除机构位于所述涂胶腔室内；所述第一驱动机构与所述第一刮除机构传动连接，用于驱动所述第一刮除机构相对所述涂胶腔室的内侧壁运动，以刮除所述内侧壁上的残留物；

所述排废管设置于所述涂胶腔室的底部，所述第二刮除机构位于所述排废管内；所述第二驱动机构与所述第二刮除机构传动连接，用于驱动所述第二刮除机构相对所述排废管的管壁运动，以刮除所述管壁上的残留物。

本申请的实施例至少具有以下优点：

光阻收集杯清洗装置进行清洗时，涂胶腔室内的第一刮除机构可在第一驱动机构的驱动下转动刮除涂胶腔室内侧壁上的残留物，排废管内的第二刮除机构可在第二驱动机构的驱动下刮除排废管管壁上的残留物，大大缩短了清洗时间且清洗的较为彻底，避免残留物颗粒掉落至光阻收集杯内的晶圆上，对晶圆加工造成破坏。

在一些实施例中，所述涂胶腔室为筒状结构；

所述第一刮除机构包括：刮板底座、于所述刮板底座上围绕所述涂胶腔室轴线方向间隔设置的多个刮板组件，所述多个刮板组件均与所述涂胶腔室的内侧壁接触；所述刮板底座滑动限位于所述涂胶腔室的内侧壁；

所述第一驱动机构与所述刮板底座传动连接，用于驱动所述刮板底座带动所述刮板组件围绕所述涂胶腔室的轴线方向转动。

在一些实施例中，所述涂胶腔室的内侧壁上形成有环形限位槽，且所述环形限位槽的轴线与所述涂胶腔室轴线方向重合，所述刮板底座上设有与所述环形限位槽滑动配合的限位部。

在一些实施例中，所述刮板组件包括支架和刮板，所述刮板通过所述支架与所述刮板底座连接；

沿垂直所述涂胶腔室轴线方向，所述刮板的截面为梯形，且所述刮板至少部分与所述涂胶腔室的内侧壁接触。

在一些实施例中，所述梯形朝向所述涂胶腔室的内侧壁的底边为弧形。

在一些实施例中，所述刮板底座通过第一齿轮副与所述第一驱动机构传动连接；

所述第一齿轮副包括第一齿轮和与所述第一齿轮啮合传动的第二齿轮，所述第一齿轮与所述第一驱动机构传动连接，所述第二齿轮通过所述刮板底座与所述涂胶腔室相连接。

在一些实施例中，所述第一驱动机构包括第一马达和传动组件，所述传动组件包括主动轮、从动轮以及连接所述主动轮和所述从动轮的传动带，所述主动轮与所述第一马达传动连接，所述从动轮与所述第一齿轮同轴传动。